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公开(公告)号：CN109791913A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059692.9
申请日：2017-09-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/768
Abstract: 描述多种处理方法，所述方法包括：透过掩模选择性正交地生长第一材料，而提供扩展的第一材料。可移除该掩模，而留下从该第一材料的表面正交延伸的该扩展的第一材料。进一步的处理可产生自对准通孔。
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