公开(公告)号：CN118112896A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202410305399.8

申请日：2020-01-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 本杰明·M·约翰逊 ,  大卫·迈克尔·科里沃 ,  李卓明 ,  柳在明 ,  陶卫民 ,  安托尼·P·马内斯

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13

Abstract: 本文所述的实施方式提供一种光刻工艺的系统、软件应用及方法，其提供以下能力的至少一个：减少稳定时间的能力；以及将曝光图案写入基板上的光刻胶中以补偿总节距在稳定时间内的变化的能力。系统的一个实施方式包括平板、设置于平板之上的平台、设置于平板上的一对支撑件、处理设备以及冷却机系统。此对支撑件支撑一对轨道，平台被配置成沿着此对轨道移动。处理设备具有耦接于平板的设备支撑件以及由设备支撑件支撑的处理单元。处理单元具有多个影像投射系统。冷却机系统具有设置在此对轨道的各轨道中的至少一个流体通道。

公开(公告)号：CN112534343B

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN201980050092.5

申请日：2019-06-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 本杰明·M·约翰逊 ,  普雷斯顿·冯 ,  肖恩·斯克鲁斯 ,  李卓明 ,  柳在明

IPC: G02F1/13 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开内容一般涉及一种用于装载、处理、及卸载基板的方法及设备。一种处理系统包括耦接至光刻系统的装载/卸载系统。此装载/卸载系统包括具有第一高度及第一宽度的第一组轨道以及具有第二高度及第二宽度的第二组轨道，第二高度不同于第一高度，第二宽度不同于第一宽度。未处理的基板在第一托盘上沿着第一组轨道从升降销装载器传送至夹持件，同时已处理的基板在第二托盘上沿着第二组轨道从夹持件传送至升降销装载器。当在处理期间第一托盘在夹持件上维持有基板时，装载/卸载系统经构造以在第二托盘上卸载已处理的基板并装载未处理的

公开(公告)号：CN118119893A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202280037478.4

申请日：2021-07-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 本杰明·M·约翰逊 ,  柳在明 ,  瓦苏曼·加纳帕蒂·斯里兰卡 ,  普雷斯顿·冯 ,  大卫·科里沃 ,  李卓 ,  豪尔赫·阿雷利亚诺

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种网桥加固构件组件包括第一加固构件板和第二加固构件板、以及用于将第一加固构件板和第二加固构件板固定至数字光刻系统的网桥结构的夹板。夹板包括设置在第一加固构件板的第一端上的第一对夹板、设置在第一加固构件板的第二端和第二加固构件板的第一端上的第二对夹板、以及设置在第二加固构件板的第二端上的第三对夹板。网桥加固构件组件进一步包括加强梁，所述加强梁包括设置在第一对夹板上的第一加强梁、设置在第二对夹板上的第二加强梁、以及设置在第三对夹板上的第三加强梁。

公开(公告)号：CN112534343A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN201980050092.5

申请日：2019-06-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 本杰明·M·约翰逊 ,  普雷斯顿·冯 ,  肖恩·斯克鲁斯 ,  李卓明 ,  柳在明

IPC: G02F1/13 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开内容一般涉及一种用于装载、处理、及卸载基板的方法及设备。一种处理系统包括耦接至光刻系统的装载/卸载系统。此装载/卸载系统包括具有第一高度及第一宽度的第一组轨道以及具有第二高度及第二宽度的第二组轨道，第二高度不同于第一高度，第二宽度不同于第一宽度。未处理的基板在第一托盘上沿着第一组轨道从升降销装载器传送至夹持件，同时已处理的基板在第二托盘上沿着第二组轨道从夹持件传送至升降销装载器。当在处理期间第一托盘在夹持件上维持有基板时，装载/卸载系统经构造以在第二托盘上卸载已处理的基板并装载未处理的基板。

公开(公告)号：CN113490885B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202080016676.3

申请日：2020-01-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 本杰明·M·约翰逊 ,  大卫·迈克尔·科里沃 ,  李卓明 ,  柳在明 ,  陶卫民 ,  安托尼·P·马内斯

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13

Abstract: 本文所述的实施方式提供一种光刻工艺的系统、软件应用及方法，其提供以下能力的至少一个：减少稳定时间的能力；以及将曝光图案写入基板上的光刻胶中以补偿总节距在稳定时间内的变化的能力。系统的一个实施方式包括平板、设置于平板之上的平台、设置于平板上的一对支撑件、处理设备以及冷却机系统。此对支撑件支撑一对轨道，平台被配置成沿着此对轨道移动。处理设备具有耦接于平板的设备支撑件以及由设备支撑件支撑的处理单元。处理单元具有多个影像投射系统。冷却机系统具有设置在此对轨道的各轨道中的至少一个流体通道。

公开(公告)号：CN113490885A

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN202080016676.3

申请日：2020-01-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 本杰明·M·约翰逊 ,  大卫·迈克尔·科里沃 ,  李卓明 ,  柳在明 ,  陶卫民 ,  安托尼·P·马内斯

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13

Abstract: 本文所述的实施方式提供一种光刻工艺的系统、软件应用及方法，其提供以下能力的至少一个：减少稳定时间的能力；以及将曝光图案写入基板上的光刻胶中以补偿总节距在稳定时间内的变化的能力。系统的一个实施方式包括平板、设置于平板之上的平台、设置于平板上的一对支撑件、处理设备以及冷却机系统。此对支撑件支撑一对轨道，平台被配置成沿着此对轨道移动。处理设备具有耦接于平板的设备支撑件以及由设备支撑件支撑的处理单元。处理单元具有多个影像投射系统。冷却机系统具有设置在此对轨道的各轨道中的至少一个流体通道。