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公开(公告)号：CN116195383A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202080105019.6
申请日：2020-08-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿比吉特·拉克斯曼·桑格尔 , 维杰·班·夏尔马 , 薛元 , 安库尔•凯达姆 , 巴拉特瓦·罗摩克里希南 , 乌代·派 , 尼利斯·帕蒂尔
IPC: H10N30/05
Abstract: 揭示了用于在基板(201)上沉积用于压电应用的均匀层的方法及设备。从其中心到边缘具有均匀厚度的超薄种晶层(308)沉积在基板(201)上。与随后形成的压电材料层(312)的晶体结构紧密匹配的模板层(310)沉积在基板(201)上。种晶层(308)及模板层(310)的均匀厚度及取向继而促使生长具有改良的结晶度及压电特性的压电材料。
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