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公开(公告)号：CN119256394A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380042081.9
申请日：2023-05-04
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 米特斯·桑维 , 文卡塔纳拉亚纳·尚卡拉穆尔提 , 姚雨莲 , 汪传颖 , 韩新海
Abstract: 一种电子装置制造系统，能够获得与根据处理配方在基板上执行的沉积处理相关联的计量数据，其中沉积处理在基板的表面上产生多个层。制造系统可进一步获得与处理配方相关联的预期轮廓，其中预期轮廓包括指示处理配方的多个层的期望厚度的多个值。制造系统可进一步基于计量数据和预期轮廓产生校正轮廓，其中校正轮廓包括多个层中的至少一个层的沉积时间偏移值。制造系统可进一步通过将校正轮廓应用到处理配方来产生更新的处理配方，并使得根据更新的处理配方在基板上执行沉积步骤。
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