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公开(公告)号:CN105431928B
公开(公告)日:2018-02-16
申请号:CN201480005224.X
申请日:2014-01-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 阿古斯·索菲安·查德拉 , 卡利安吉特·戈什 , 克里斯托弗·S·奥尔森 , 乌梅什·M·科卡尔
IPC: H01L21/324
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , Y10T137/87652
Abstract: 本文提供用于混合及传送处理气体的装置与方法。在一些实施方式中,一种气体注入装置包括:长形顶部气室,顶部气室包括第一气体入口;长形底部气室,底部气室设置于顶部气室之下并且支撑顶部气室,底部气室包括第二气体入口;多个第一导管,多个第一导管设置通过底部气室,且多个第一导管具有流体地耦接于顶部气室的第一端和设置于底部气室之下的第二端;以及多个第二导管,多个第二导管具有流体地耦接于底部气室的第一端和设置于底部气室之下的第二端;其中底部气室的下端适用于将气体注入装置流体地耦接于混合腔室,使得多个第一导管的第二端与多个第二导管的第二端流体连通于混合腔室。
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公开(公告)号:CN104471672B
公开(公告)日:2020-01-17
申请号:CN201380036866.1
申请日:2013-07-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/205
Abstract: 在此提供气体混合设备的实施方式。在一些实施方式中,气体混合设备可包括容器、多个第一入口和出口,所述容器界定内部容积,所述容器具有封闭的顶部和底部以及相对于穿过顶部和底部的容器的中心轴的具有圆形截面的侧壁;所述多个第一入口在靠近容器的顶部处耦接至容器,以提供多种处理气体至容器的内部容积,所述多个第一入口被设置成使得通过多个第一入口的多种处理气体的流动路径与容器的侧壁实质上正切;所述出口在靠近容器的底部处耦接至容器,以允许多种处理气体从容器的内部容积移除。
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公开(公告)号:CN105431928A
公开(公告)日:2016-03-23
申请号:CN201480005224.X
申请日:2014-01-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 阿古斯·索菲安·查德拉 , 卡利安吉特·戈什 , 克里斯托弗·S·奥尔森 , 乌梅什·M·科卡尔
IPC: H01L21/324
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , Y10T137/87652
Abstract: 本文提供用于混合及传送处理气体的装置与方法。在一些实施方式中,一种气体注入装置包括:长形顶部气室,顶部气室包括第一气体入口;长形底部气室,底部气室设置于顶部气室之下并且支撑顶部气室,底部气室包括第二气体入口;多个第一导管,多个第一导管设置通过底部气室,且多个第一导管具有流体地耦接于顶部气室的第一端和设置于底部气室之下的第二端;以及多个第二导管,多个第二导管具有流体地耦接于底部气室的第一端和设置于底部气室之下的第二端;其中底部气室的下端适用于将气体注入装置流体地耦接于混合腔室,使得多个第一导管的第二端与多个第二导管的第二端流体连通于混合腔室。
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公开(公告)号:CN105074877B
公开(公告)日:2018-05-11
申请号:CN201480009306.1
申请日:2014-02-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/30
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D39/12 , B08B5/00 , B08B7/00 , H01L21/02076 , H01L21/02087 , H01L21/0209 , H01L21/67051
Abstract: 一种基板清洁设备可包括:基板支撑件,该基板支撑件具有支撑表面,以支撑待清洁的基板,其中该基板支撑件可围绕垂直于支撑表面的中心轴旋转;第一喷嘴,当基板支撑件的支撑表面支撑该基板时,该第一喷嘴将第一清洁气体提供至内部空间的区域,该区域对应于基板的边缘的位置;第一环形主体,该第一环形主体设置于基板支撑件的支撑表面的相对面,且与该基板支撑件的支撑表面间隔开缝隙,该第一环形主体具有中央开口,该中央开口由内壁界定,该内壁经塑形以在径向向外的方向上于第一环形主体与支撑表面之间提供减小尺寸的缝隙;和第一气体入口,该第一气体入口将第一气体提供至第一环形主体的中央开口。
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公开(公告)号:CN105074877A
公开(公告)日:2015-11-18
申请号:CN201480009306.1
申请日:2014-02-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/30
CPC classification number: H01L21/67028 , B01D39/12 , B08B5/00 , B08B7/00 , H01L21/02076 , H01L21/02087 , H01L21/0209 , H01L21/67051
Abstract: 一种基板清洁设备可包括:基板支撑件,该基板支撑件具有支撑表面,以支撑待清洁的基板,其中该基板支撑件可围绕垂直于支撑表面的中心轴旋转;第一喷嘴,当基板支撑件的支撑表面支撑该基板时,该第一喷嘴将第一清洁气体提供至内部空间的区域,该区域对应于基板的边缘的位置;第一环形主体,该第一环形主体设置于基板支撑件的支撑表面的相对面,且与该基板支撑件的支撑表面间隔开缝隙,该第一环形主体具有中央开口,该中央开口由内壁界定,该内壁经塑形以在径向向外的方向上于第一环形主体与支撑表面之间提供减小尺寸的缝隙;和第一气体入口,该第一气体入口将第一气体提供至第一环形主体的中央开口。
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公开(公告)号:CN104471672A
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201380036866.1
申请日:2013-07-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/205
Abstract: 在此提供气体混合设备的实施方式。在一些实施方式中,气体混合设备可包括容器、多个第一入口和出口,所述容器界定内部容积,所述容器具有封闭的顶部和底部以及相对于穿过顶部和底部的容器的中心轴的具有圆形截面的侧壁;所述多个第一入口在靠近容器的顶部处耦接至容器,以提供多种处理气体至容器的内部容积,所述多个第一入口被设置成使得通过多个第一入口的多种处理气体的流动路径与容器的侧壁实质上正切;所述出口在靠近容器的底部处耦接至容器,以允许多种处理气体从容器的内部容积移除。
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