-
公开(公告)号:CN114945706B
公开(公告)日:2024-12-10
申请号:CN202180008851.9
申请日:2021-02-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 克里斯蒂娜·L·恩格勒 , 陈璐
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/02 , C23C16/34
Abstract: 描述了用于调节处理套件以增加处理套件寿命的方法及装置。形成于处理套件上的氮化物膜被暴露至包含氮及氢自由基调节处理,以调节所述氮化物膜,从而减少来自所述处理套件的颗粒污染。
-
公开(公告)号:CN119710625A
公开(公告)日:2025-03-28
申请号:CN202411757498.6
申请日:2021-02-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 克里斯蒂娜·L·恩格勒 , 陈璐
IPC: C23C16/44 , C23C16/34 , C23C16/455 , H01J37/32
Abstract: 描述了用于调节处理套件以增加处理套件寿命的方法及装置。形成于处理套件上的氮化物膜被暴露至包含氮及氢自由基调节处理,以调节所述氮化物膜,从而减少来自所述处理套件的颗粒污染。
-
公开(公告)号:CN114981478A
公开(公告)日:2022-08-30
申请号:CN202180009149.4
申请日:2021-04-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/34 , C23C16/56 , C23C16/04 , H01L21/02
Abstract: 描述一种用于掺杂阻挡层的方法,所述阻挡层诸如,钽(Ta)、氮化钽(TaN)、碳化钽(TaC)、铌(Nb)、氮化铌(NbN)、锰(Mn)、氮化锰(MnN)、钛(Ti)、氮化钛(TiN)、钼(Mo)和氮化钼(MoN)、和类似者。掺杂剂可包括钌(Ru)、锰(Mn)、铌(Nb)、钴(Co)、钒(V)、铜(Cu)、铝(Al)、碳(C)、氧(O)、硅(Si)、钼(Mo)和类似者中的一种或多种。经掺杂的阻挡层以小于约的厚度提供了改良的粘附性。
-
公开(公告)号:CN114945706A
公开(公告)日:2022-08-26
申请号:CN202180008851.9
申请日:2021-02-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 克里斯蒂娜·L·恩格勒 , 陈璐
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/02 , C23C16/34
Abstract: 描述了用于调节处理套件以增加处理套件寿命的方法及装置。形成于处理套件上的氮化物膜被暴露至包含氮及氢自由基调节处理,以调节所述氮化物膜,从而减少来自所述处理套件的颗粒污染。
-
-
-