公开(公告)号：CN116569311A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202180063940.3

申请日：2021-07-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 越泽武仁 ,  卡希克·贾纳基拉曼 ,  程睿 ,  克里希纳·尼塔拉 ,  李梦辉 ,  庄明元 ,  筱原奨 ,  郭娟 ,  杨夏万 ,  张振毅 ,  李子汇 ,  高嘉玲 ,  金曲 ,  王安川

IPC: H01L21/311

Abstract: 示例性处理方法可包括在半导体处理腔室的处理区域内设置的基板上沉积含硼材料或含硅和硼的材料。方法可包括用含氯前驱物蚀刻含硼材料或含硅和硼的材料的部分以在基板中形成一个或多个特征。方法亦可包括用含氟前驱物从基板移除含硼材料或含硅和硼的材料的剩余部分。

公开(公告)号：CN116917542A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202280018544.3

申请日：2022-02-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 安东·V·巴里什尼科夫 ,  阿尤特·阿尤丁 ,  黄祖滨 ,  程睿 ,  杨毅 ,  迪瓦卡尔·科德拉雅 ,  文卡塔纳拉亚纳•尚卡拉穆尔提 ,  克里希纳·尼塔拉 ,  卡希克·贾纳基拉曼

IPC: C23C16/52

Abstract: 提供了用于使用机器学习控制沉积膜的浓度轮廓的方法及系统。将与在用于基板的沉积工艺期间待在基板表面上沉积的膜的目标浓度轮廓相关联的数据作为输入提供到经训练的机器学习模型。获得经训练的机器学习模型的一个或多个输出。由一个或多个输出决定识别沉积工艺设置的一个或多个集合的工艺配方数据。针对沉积工艺设置的每个集合，亦决定了沉积工艺设置的相应集合对应于待在基板上沉积的膜的目标浓度轮廓的信赖水平的指示。回应于识别具有满足信赖准则水平的信赖水平的沉积工艺设置的相应集合，根据沉积工艺设置的相应集合执行沉积工艺的一个或多个操作。