-
公开(公告)号：CN102741974A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180007643.3
申请日：2011-04-19
申请人： 应用材料公司
发明人： 杰瑞德·阿哈默德·里 , 詹姆斯·P·克鲁斯 , 安德鲁·源 , 克里·林恩·柯布 , 明·徐 , 马丁·杰夫·萨里纳斯 , 安克·舍内尔
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/6719
摘要： 本发明提供了具有共享资源的工艺腔室及其使用方法。在一些实施例中，基板处理系统包括第一工艺腔室，该第一工艺腔室具有布置在第一工艺腔室中的第一基板支撑件，其中第一基板支撑件具有第一加热器和第一冷却板，以控制第一基板支撑件的温度；第二工艺腔室，该第二工艺腔室具有布置在第二工艺腔室内的第二基板支撑件，其中第二基板支撑件具有第二加热器和第二冷却板，以控制第二基板支撑件的温度；以及共同传热流体源，该传热流体源具有出口以将传热流体提供至第一冷却板和第二冷却板，并且该传热流体源具有入口，以接收来自第一冷却板和第二冷却板的传热流体。
-
公开(公告)号：CN103038867B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201180007645.2
申请日：2011-04-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/67253 , F16K37/00 , F16K37/0091 , G01F25/00 , Y10T29/53022 , Y10T137/8158 , Y10T137/87153 , Y10T137/87684 , Y10T137/877
摘要： 本发明涉及一种基板制程系统中用于校准多个气体流量的方法及装置。在一些实施例中，基板制程系统可包含群集工具，该群集工具包含：与中央真空传送腔室耦接的第一制程腔室及第二制程腔室；第一流量控制器，该第一流量控制器提供制程气体至该第一制程腔室；第二流量控制器，该第二流量控制器提供制程气体至该第二制程腔室；质量流量验证器，该质量流量验证器用以验证各别来自第一与第二流量控制器的流率；第一导管，该第一导管可选择性地使该第一流量控制器耦接至该质量流量验证器；以及第二导管，该第二导管可选择性地使该第二流量控制器耦接至该质量流量验证器。
-
公开(公告)号：CN102741975A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180007654.1
申请日：2011-04-25
申请人： 应用材料公司
发明人： 明·徐 , 安德鲁·源 , 伊万斯·里 , 杰瑞德·阿哈默德·里 , 詹姆斯·P·克鲁斯 , 克里·林恩·柯布 , 马丁·杰夫·萨里纳斯 , 安克·舍内尔 , 伊兹拉·罗伯特·高德 , 约翰·W·雷恩
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/45561 , C23C16/46 , C23C16/509 , C23C16/54
摘要： 本发明公开了用于双腔室处理系统的方法和设备，并且在一些实施例中，该设备可包括第一工艺腔室和第二工艺腔室以及多个共享资源，多个共享资源介于第一与第二工艺腔室之间，第一工艺腔室与第二工艺腔室具有独立处理空间。在一些实施例中，共享资源包括共享真空泵、共享气体面板，或共享热传递源中的至少一者。
-
公开(公告)号：CN102741975B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201180007654.1
申请日：2011-04-25
申请人： 应用材料公司
发明人： 明·徐 , 安德鲁·源 , 伊万斯·里 , 杰瑞德·阿哈默德·里 , 詹姆斯·P·克鲁斯 , 克里·林恩·柯布 , 马丁·杰夫·萨里纳斯 , 安克·舍内尔 , 伊兹拉·罗伯特·高德 , 约翰·W·雷恩
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/45561 , C23C16/46 , C23C16/509 , C23C16/54
摘要： 本发明公开了用于双腔室处理系统的方法和设备，并且在一些实施例中，该设备可包括第一工艺腔室和第二工艺腔室以及多个共享资源，多个共享资源介于第一与第二工艺腔室之间，第一工艺腔室与第二工艺腔室具有独立处理空间。在一些实施例中，共享资源包括共享真空泵、共享气体面板，或共享热传递源中的至少一者。
-
公开(公告)号：CN103038867A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201180007645.2
申请日：2011-04-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/67253 , F16K37/00 , F16K37/0091 , G01F25/00 , Y10T29/53022 , Y10T137/8158 , Y10T137/87153 , Y10T137/87684 , Y10T137/877
摘要： 本发明涉及一种基板制程系统中用于校准多个气体流量的方法及装置。在一些实施例中，基板制程系统可包含群集工具，该群集工具包含：与中央真空传送腔室耦接的第一制程腔室及第二制程腔室；第一流量控制器，该第一流量控制器提供制程气体至该第一制程腔室；第二流量控制器，该第二流量控制器提供制程气体至该第二制程腔室；质量流量验证器，该质量流量验证器用以验证各别来自第一与第二流量控制器的流率；第一导管，该第一导管可选择性地使该第一流量控制器耦接至该质量流量验证器；以及第二导管，该第二导管可选择性地使该第二流量控制器耦接至该质量流量验证器。
-
公开(公告)号：CN102870199A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201180007644.8
申请日：2011-04-25
申请人： 应用材料公司
发明人： 詹姆斯·P·克鲁斯 , 伊兹拉·罗伯特·高德 , 杰瑞德·阿哈默德·里 , 明·徐 , 克里·林恩·柯布 , 安德鲁·源 , 约翰·W·雷恩
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/3244 , Y10T137/0357 , Y10T137/877
摘要： 本发明涉及对处理腔室进行气体传送的方法与设备。在某些具体实施例中，处理基板设备包含流量控制器以提供所需的总气体流量；第一流量控制歧管，该第一流量控制歧管包含第一入口、第一出口、及选择性连接于其间的多个第一孔，其中该第一入口连接至该流量控制器；以及第二流量控制歧管，该第二流量控制歧管包含第二入口、第二出口、及选择性连接于其间的多个第二孔，其中该第二入口连接至该流量控制器。其中通过选择性使流体流经该第一歧管的该多个第一孔中的一或更多第一孔以及该第二歧管的该多个第二孔中的一或更多第二孔而可选择性获得在该第一出口与该第二出口之间的所需流量比例。
-
-
-
-
-
搜索结果
6 条记录 (耗时 0.02 秒)
