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公开(公告)号：CN101924006A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010243822.4
申请日：2004-06-22
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3402 , C23C14/046 , C23C14/345 , C23C14/3457 , C23C14/358 , H01J37/321 , H01J37/32623 , H01J37/3408 , H01J37/3411 , H01J37/3441 , H01J2237/3327 , H01L21/2855 , H01L21/76843 , H01L21/76877
Abstract: 本发明涉及用于溅射反应器中的护罩。本发明的一个方面包括定位在等离子体溅射反应器的室壁外部的辅助磁环，其至少部分地布置在RF线圈的径向外部，该RF线圈用于感应发生等离子体，尤其是用于溅射刻蚀被溅射沉积的衬底。由此，磁阻挡防止等离子体向外泄漏至线圈，并改进溅射刻蚀的不均匀性。当线圈由与主靶相同材料制成时，线圈被用作第二磁体时，磁场还充当磁体。本发明的另一方面包括从靶延伸到支座的单片内护罩，该内护罩具有光滑内表面并在护罩中间部分由环形法兰支撑。该护罩可以被用于支撑RF线圈。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1610766A
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN03801833.0
申请日：2003-02-24
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/32477 , C23C14/564
Abstract: 本发明公开了一种更换真空室中消耗品的装置。一种整体式可拆卸屏蔽罩组件(100)被提供来快速地更换诸如屏蔽罩(145，150)之类的消耗品。屏蔽罩组件可以包括上接合器组件(110)、至少一个屏蔽罩构件(145，150)、覆盖环(155)和绝缘体构件(115)。屏蔽罩构件被设计成使得消耗品可以在一个步骤中被更换并允许所述室继续其维护循环。
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公开(公告)号：CN101924006B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201010243822.4
申请日：2004-06-22
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3402 , C23C14/046 , C23C14/345 , C23C14/3457 , C23C14/358 , H01J37/321 , H01J37/32623 , H01J37/3408 , H01J37/3411 , H01J37/3441 , H01J2237/3327 , H01L21/2855 , H01L21/76843 , H01L21/76877
Abstract: 本发明涉及用于溅射反应器中的护罩。本发明的一个方面包括定位在等离子体溅射反应器的室壁外部的辅助磁环，其至少部分地布置在RF线圈的径向外部，该RF线圈用于感应发生等离子体，尤其是用于溅射刻蚀被溅射沉积的衬底。由此，磁阻挡防止等离子体向外泄漏至线圈，并改进溅射刻蚀的不均匀性。当线圈由与主靶相同材料制成时，线圈被用作第二磁体时，磁场还充当磁体。本发明的另一方面包括从靶延伸到支座的单片内护罩，该内护罩具有光滑内表面并在护罩中间部分由环形法兰支撑。该护罩可以被用于支撑RF线圈。
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公开(公告)号：CN100342056C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN03801833.0
申请日：2003-02-24
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/32477 , C23C14/564
Abstract: 本发明公开了一种更换真空室中消耗品的装置。一种整体式可拆卸屏蔽罩组件(100)被提供来快速地更换诸如屏蔽罩(145，150)之类的消耗品。屏蔽罩组件可以包括上接合器组件(110)、至少一个屏蔽罩构件(145，150)、覆盖环(155)和绝缘体构件(115)。屏蔽罩构件被设计成使得消耗品可以在一个步骤中被更换并允许所述室继续其维护循环。
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公开(公告)号：CN1813332B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200480017849.4
申请日：2004-06-22
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3402 , C23C14/046 , C23C14/345 , C23C14/3457 , C23C14/358 , H01J37/321 , H01J37/32623 , H01J37/3408 , H01J37/3411 , H01J37/3441 , H01J2237/3327 , H01L21/2855 , H01L21/76843 , H01L21/76877
Abstract: 本发明的一个方面包括定位在等离子体溅射反应器的室壁外部的辅助磁环，其至少部分地布置在RF线圈的径向外部，该RF线圈用于感应发生等离子体，尤其是用于溅射刻蚀被溅射沉积的衬底。由此，磁阻挡防止等离子体向外泄漏至线圈，并改进溅射刻蚀的不均匀性。当线圈由与主靶相同材料制成时，线圈被用作第二磁体时，磁场还充当磁体。本发明的另一方面包括从靶延伸到支座的单片内屏壁，该内护罩具有光滑内表面并在护罩中间部分由环形法兰支撑。该护罩可以被用于支撑RF线圈。
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公开(公告)号：CN1813332A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480017849.4
申请日：2004-06-22
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3402 , C23C14/046 , C23C14/345 , C23C14/3457 , C23C14/358 , H01J37/321 , H01J37/32623 , H01J37/3408 , H01J37/3411 , H01J37/3441 , H01J2237/3327 , H01L21/2855 , H01L21/76843 , H01L21/76877
Abstract: 本发明的一个方面包括定位在等离子体溅射反应器的室壁外部的辅助磁环，其至少部分地布置在RF线圈的径向外部，该RF线圈用于感应发生等离子体，尤其是用于溅射刻蚀被溅射沉积的衬底。由此，磁阻挡防止等离子体向外泄漏至线圈，并改进溅射刻蚀的不均匀性。当线圈由与主靶相同材料制成时，线圈被用作第二磁体时，磁场还充当磁体。本发明的另一方面包括从靶延伸到支座的单片内屏壁，该内护罩具有光滑内表面并在护罩中间部分由环形法兰支撑。该护罩可以被用于支撑RF线圈。
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