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公开(公告)号：CN114035409A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111388897.6
申请日：2021-11-22
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本申请公开了一种显影震荡装置、显影装置、显影方法、制造方法及设备。该显影震荡装置包括震荡控制装置以及两两连接的计算控制装置、水平探测装置和机械臂；震荡控制装置用于控制机械臂运动的速度、频率及方向；水平探测装置用于获取印制电路板基板的偏移数据，将偏移数据发送给计算控制装置，并在计算控制装置的控制下调整机械臂的位姿参数；计算控制装置用于根据偏移数据计算出水平探测装置的调整参数，基于调整参数控制水平探测装置调整机械臂的位姿参数。本申请的显影震荡装置能够通过控制机械臂的运动的频率与速度调整基板在显影液中的震荡参数，改善印制电路板在生产过程中由于光的衍射、漫反射等效应所导致的图像边缘有毛边的缺陷。
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公开(公告)号：CN113031390A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110274061.7
申请日：2021-03-15
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本发明涉及一种激光直写仿真的方法、激光直写的方法、激光直写仿真的装置及激光直写的装置，包括：获取待刻蚀材料的激光直写能量分布模型；利用二分法确定各个焦平面的位置；根据各个焦平面的位置和激光直写能量分布模型，得到多束激光束对待刻蚀材料进行激光直写时在待刻蚀材料内产生的能量分布仿真结果；多束激光束对所述待刻蚀材料进行激光直写后在待刻蚀材料上产生预设的立体图案，立体图案的高宽比大于预设值。上述激光直写仿真的方法可以得到利用二分法确定各个焦平面的位置后，可以提高图案化后形成图像的保真度的结果，从而提高了在待刻蚀材料上书写高宽比图像的可行性，使得激光直写可以被用用到更多的交叉学科和领域。
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公开(公告)号：CN113031390B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202110274061.7
申请日：2021-03-15
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本发明涉及一种激光直写仿真的方法、激光直写的方法、激光直写仿真的装置及激光直写的装置，包括：获取待刻蚀材料的激光直写能量分布模型；利用二分法确定各个焦平面的位置；根据各个焦平面的位置和激光直写能量分布模型，得到多束激光束对待刻蚀材料进行激光直写时在待刻蚀材料内产生的能量分布仿真结果；多束激光束对所述待刻蚀材料进行激光直写后在待刻蚀材料上产生预设的立体图案，立体图案的高宽比大于预设值。上述激光直写仿真的方法可以得到利用二分法确定各个焦平面的位置后，可以提高图案化后形成图像的保真度的结果，从而提高了在待刻蚀材料上书写高宽比图像的可行性，使得激光直写可以被用用到更多的交叉学科和领域。
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