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公开(公告)号:CN110629284B
公开(公告)日:2021-08-17
申请号:CN201911047773.4
申请日:2019-10-30
Applicant: 广东先导稀材股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种氮化镓晶体的生长方法,包括以下步骤:(1)在玻璃基板上沉积金属薄膜,然后高温退火,得到已沉积金属薄膜的玻璃基板;(2)将步骤(1)所得的已沉积金属薄膜的玻璃基板置于晶体生长炉内,在晶体生长炉内通入酸性气体腐蚀,然后通入吹扫气体吹扫;(3)吹扫结束后通入氨气和氯化镓气体,并在金属薄膜上沉积氮化镓晶体,晶体生长完成后,将已沉积氮化镓晶体和金属薄膜的玻璃基板置于腐蚀液中,将金属薄膜腐蚀,得到氮化镓晶体。本发明的生长方法制备得到的氮化镓晶体结晶性能良好,无多晶等缺陷;且该生长方法成本低,适合大规模产业化。
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公开(公告)号:CN110685013A
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201911081896.X
申请日:2019-11-07
Applicant: 广东先导稀材股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种锑化物晶体生长装置及生长方法。本发明通过将高纯原料置于船形石英坩埚内,船形石英坩埚的一端的籽晶槽内装有籽晶,升温使高纯原料反应并熔化成锑化物熔体,熔体与籽晶接触后开始晶体生长,一次晶体生长之后,通过多次单晶区熔进行提纯,降温冷却后得到锑化物晶体。该生长方法工序简单、效率高,且得到的锑化物晶体结晶性能良好,无开裂,无气泡、夹杂等缺陷,单晶重复率较高,成晶率达到90%~100%。
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公开(公告)号:CN110629284A
公开(公告)日:2019-12-31
申请号:CN201911047773.4
申请日:2019-10-30
Applicant: 广东先导稀材股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种氮化镓晶体的生长方法,包括以下步骤:(1)在玻璃基板上沉积金属薄膜,然后高温退火,得到已沉积金属薄膜的玻璃基板;(2)将步骤(1)所得的已沉积金属薄膜的玻璃基板置于晶体生长炉内,在晶体生长炉内通入酸性气体腐蚀,然后通入吹扫气体吹扫;(3)吹扫结束后通入氨气和氯化镓气体,并在金属薄膜上沉积氮化镓晶体,晶体生长完成后,将已沉积氮化镓晶体和金属薄膜的玻璃基板置于腐蚀液中,将金属薄膜腐蚀,得到氮化镓晶体。本发明的生长方法制备得到的氮化镓晶体结晶性能良好,无多晶等缺陷;且该生长方法成本低,适合大规模产业化。
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