二氧化碳离子水发泡机
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117654318A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311807534.0

    申请日:2023-12-26

    Inventor: 徐飞 徐英

    Abstract: 本发明涉及一种二氧化碳离子水发泡机,柜体中设有管路组,管路组的进水管一端设有控制管,控制管上接有多个发泡单元,控制管的位于相邻两个发泡单元间设有流量阀,管路组的出水管分别与第一混合管和第二混合管相连,第一混合管和第二混合管的管径不同,部分发泡单元与第一混合管连接,另一部分发泡单元与第二混合管相连,发泡单元包括气液混合筒,气液混合筒上装有CO2储气罐和混合器,气液混合筒内设有夹气膜。本发明设计多个管径的混合管道,通过流量阀控制,不同管路可以单独工作也可以组合使用,进行多线路的工作,这样产出的超纯水的电导率值的可选范围更大,适用性更广,可以获得不同电导率的超纯水,切换方便,能实现一机多用,产能更大。

    光掩模版硫酸根去除装置及方法

    公开(公告)号:CN116755288A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310627185.8

    申请日:2023-05-30

    Inventor: 徐飞 李锦宇

    Abstract: 本发明涉及一种光掩模版硫酸根去除装置及方法,装置包括UV腔室、UV灯和支撑部,UV腔室上端部的一侧配置有双作用孔,另一侧配置有进气孔,下端部配置有排气孔;UV灯位于UV腔室外的上方,用于向UV腔室内提供UV光照;支撑部位于UV腔室内,用于支撑光掩模版,并被配置为可升降至上料位和工作位,工作位高于上料位;其中,在支撑部处于上料位时,对UV腔室进行氮气填充处理,双作用孔作为进气孔使用;在支撑部处于工作位时,在氮气氛围下对支撑部上的光掩模版进行去硫酸根处理,双作用孔作为排气孔使用。本发明可以使UV腔室内的空气彻底、快速排出,以形成纯净氮气氛围,以及使硫酸根分解产生的废气快速排出,以避免沉积。

    光掩模版边缘清洗设备用平行定位装置

    公开(公告)号:CN115857272A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211579900.7

    申请日:2022-12-09

    Inventor: 徐飞 张博文

    Abstract: 本发明涉及一种光掩模版边缘清洗设备用平行定位装置,包括安装架、两个滑动测距机构、条形喷嘴和转动驱动机构;两个滑动测距机构位于所述安装架两侧,包括滑配在所述安装架上的滑动件和安装在所述滑动件上并用于测量其与校准件之间的距离的测距传感器;条形喷嘴的中间位置转动安装在所述安装架上,每个端部通过一个联动机构连接一个滑动件,所述条形喷嘴在转动的过程中通过所述联动机构带动滑动件滑动;转动驱动机构安装在所述安装架和所述条形喷嘴之间,用于驱动所述条形喷嘴转动至使两个测距传感器测得的距离相等的位置。本发明可以很方便地对条形喷嘴进行平行定位。

    一种基材的清洗机构
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115634875A

    公开(公告)日:2023-01-24

    申请号:CN202211375604.5

    申请日:2022-11-04

    Inventor: 徐飞 王玲

    Abstract: 本发明涉及一种基材的清洗机构,包括卡盘本体、支撑定位机构和至少一个清洗组件,所述卡盘本体的中间位置具有通孔;所述支撑定位机构安装在所述卡盘本体上,用于支撑并固定基材的四个角部,至少一个清洗组件穿过所述通孔,用于清洗所述基材的背面。本发明可以使得基材在不翻面的情况下进行背面清洗,以降低清洗时间。

    水帘喷头
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113171889A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN202110458343.2

    申请日:2021-04-27

    Inventor: 徐飞 王玲 沈健

    Abstract: 本发明公开了一种水帘喷头,涉及喷头技术领域,包括喷头本体和喷头盖板,喷头本体和喷头盖板可拆卸连接,喷头本体内设有进液口、第一腔体和多个第一出液口,进液口固定于喷头本体的第一面,多个第一出液口位于喷头本体的第二面,进液口与第一腔体的第一面相连通,第一出液口与第一腔体的第二面相连通,喷头盖板与喷头本体的第二面形成第二腔体,第一出液口与第二腔体连通,第二腔体上设有第二出液口。本发明能够有效的减小液体的冲击力,并且增大液体的出液范围。

    一种光掩模湿法工艺卡盘

    公开(公告)号:CN111863701B

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN202010729016.1

    申请日:2020-07-27

    Abstract: 本发明公开一种光掩模湿法工艺卡盘,涉及微电子制造领域,包括卡盘本体,所述卡盘本体底部固定连接有卡盘连接件,所述卡盘连接件与旋转电机的旋转轴固定连接;所述旋转电机上安装有马达盖本体,所述马达盖本体套设于所述卡盘连接件上,所述马达盖本体与所述卡盘本体之间设置有卡盘防水罩,所述卡盘防水罩套设于所述卡盘连接件上,且所述卡盘防水罩顶部与所述卡盘本体底部固定连接。本发明通过设计优化卡盘底座和马达盖的密封结构,达到防水和防止虹吸效应,避免液体进入马达盖,有效防止旋转电机进水和腐蚀。

    一种杯状模压模具
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112092446A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN202010904326.2

    申请日:2020-09-01

    Abstract: 本发明公开一种杯状模压模具,涉及模压成型技术领域,包括自下而上依次对接设置的机构腔、下腔体和上腔体,机构腔内设置有可升降调节的型芯;型芯的顶部位于下腔体内,并与下腔体、上腔体共同组成一个杯深可调的“杯状”空腔,“杯状”空腔内用于填充胚料,胚料上方设置模压块,用于压缩胚料。本发明提供的杯状模压模具,通过可升降调节的型芯、下腔体、上腔体共同组成一个杯深可调的“杯状”空腔,该“杯状”空腔可将粉料一次性模压成空心的“杯状”结构,结构设计合理,操作简便,相比传统的实心圆柱体模具可大大减少模压的原材料成本,一次基本成型,无需额外的去心操作步骤,节省了加工成本,提高加工效率,实用性强。

    一种压力罐
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112032301A

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN202010926494.1

    申请日:2020-09-07

    Abstract: 本发明公开了一种压力罐,涉及高压储存设备技术领域,包括:压力罐本体和加/泄压设备,压力罐本体包括罐体、内桶体和盖体,罐体和内桶体均一端开口,罐体套设于内桶体外且罐体和内桶体的开口同向设置,盖体可拆卸连接于罐体上且能够将内桶体和罐体密封,加/泄压设备的加/泄压端能够向内桶体和/或罐体内加压或泄压;压力罐本体上还设置有进液口和出液口,内桶体为耐腐蚀材料制成,罐体为耐高压材料制成,本发明提供的提高压力罐能够所储存药剂的洁净度以及延长压力罐的使用寿命。

    一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法

    公开(公告)号:CN111796485A

    公开(公告)日:2020-10-20

    申请号:CN202010741764.1

    申请日:2020-07-29

    Inventor: 徐飞 邬治国 沈健

    Abstract: 本发明公开一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法,涉及光掩模技术领域,包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头和第二喷头,第一喷头和第二喷头沿光掩模边缘线性移动;第一喷头上设置有第一去胶溶剂喷嘴和第一真空吸入口,第一去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的侧面上部,第一真空吸入口垂直设置于光掩模的背面边缘;第二去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的正面边缘,第二真空吸入口垂直设置于光掩模的侧面;第一去胶溶剂喷嘴和第二去胶溶剂喷嘴均通过进液管连接有供液组件,第一真空吸入口和第二真空吸入口均通过真空管连接有真空系统。本发明同时清洗光掩模侧面残留光刻胶和边缘光刻胶,且在清洗过程中不会影响到其他区域的光刻胶。

    用于半导体掩膜板的高精密平板加热装置

    公开(公告)号:CN109003925B

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN201810916371.2

    申请日:2018-08-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于半导体掩膜板的高精密平板加热装置,包括升降单元、平板加热单元及保温罩单元,平板加热单元固定在升降单元顶端,用于对掩膜板加热,保温罩单元对应设置在平板加热单元上方,用于对掩膜板进行封闭保温,升降单元用于驱动保温罩单元及掩膜上升或下降。本发明升降动作稳定可靠,加热温度均匀,波动小,控制精度高;保温罩单元可将被加热元件完全罩于其中,最大程度的减少外界对被加热元件的影响;平板加热单元将一整块不锈钢板划分成二十五个独立的加热模块,对每个独立加热模块精确控制,以实现平板加热单元的温度波动范围保持在0.1℃以内。

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