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公开(公告)号：CN118931673A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411009157.0
申请日：2020-08-04
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种半导体器件用处理液，所述处理液相对于金属层的耐腐蚀性优异。并且，本发明的课题在于提供一种试剂盒、上述处理液的制造方法、使用上述处理液的基板的清洗方法及使用上述处理液的基板的处理方法。本发明的处理液为半导体器件用处理液，其包含水及有机溶剂，有机溶剂为由有机溶剂A及有机溶剂B构成的组合，且至少包含特定的组合1～6中的任一个组合，pH为5以上。
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公开(公告)号：CN117897662A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280059303.3
申请日：2022-08-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种处理液，该处理液在作为显影液或冲洗液使用的情况下，在其涂布于被涂布面上时抑制缺陷的产生，并且在其容纳于内壁面由金属构成的容器之后而使用时也抑制被涂布面上的缺陷的产生。本发明的课题还在于提供一种处理液容纳体。本发明的处理液含有：脂肪族烃系溶剂；选自由具有碳数为1～3的烃基的羧酸及甲酸所组成的组中的至少一种酸成分；以及含有选自由Fe、Ni及Cr所组成的组中的至少一种金属元素的金属杂质，其中，金属元素的含量相对于酸成分的含量的质量比为1.0×10‑9～3.0×10‑5。
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公开(公告)号：CN111787995B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201980016119.9
申请日：2019-03-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B01D61/58 , B01D71/28 , B01D71/32 , B01D71/52 , B01D71/56 , B01D71/68 , G03F7/16 , G03F7/26 , G03F7/32 , H01L21/304 , B01D36/02 , B01D61/14 , B01D61/16 , B01D61/22 , B01D69/00 , B01D71/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置。并且，课题还在于提供一种纯化装置及药液的制造方法。一种过滤装置，其用于将被纯化液进行纯化而得到药液，所述过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；与过滤器A不同的至少1个过滤器B；及串联配置有过滤器A及过滤器B的从流入部至流出部的流道，其中，过滤器A具有：超高分子量聚乙烯制的多孔性膜；及树脂层，以覆盖多孔性膜的表面的至少一部分的方式配置，树脂层包含具有中性基或离子交换基的树脂。
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公开(公告)号：CN112384858A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201980046230.2
申请日：2019-07-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题为提供一种即使在长期保存之后，缺陷抑制性能也优异的药液、试剂盒、图案形成方法、药液的制造方法及药液收容体。本发明的药液为含有有机溶剂、酸成分及金属成分的药液，其中，酸成分的含量相对于药液的总质量为1质量ppt以上且15质量ppm以下，金属成分的含量相对于药液的总质量为0.001～100质量ppt。
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公开(公告)号：CN111787995A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980016119.9
申请日：2019-03-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B01D61/58 , B01D71/28 , B01D71/32 , B01D71/52 , B01D71/56 , B01D71/68 , G03F7/16 , G03F7/26 , G03F7/32 , H01L21/304 , B01D36/02 , B01D61/14 , B01D61/16 , B01D61/22 , B01D69/00 , B01D71/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置。并且，课题还在于提供一种纯化装置及药液的制造方法。一种过滤装置，其用于将被纯化液进行纯化而得到药液，所述过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；与过滤器A不同的至少1个过滤器B；及串联配置有过滤器A及过滤器B的从流入部至流出部的流道，其中，过滤器A具有：超高分子量聚乙烯制的多孔性膜；及树脂层，以覆盖多孔性膜的表面的至少一部分的方式配置，树脂层包含具有中性基或离子交换基的树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109071104B
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201780021021.3
申请日：2017-03-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B65D88/02 , G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够抑制颗粒等缺陷的产生且能够制造微细的抗蚀剂图案或微细的半导体元件的半导体制造用处理液，另外，提供一种收容有该半导体制造用处理液的收容容器。另外，本发明的目的在于提供一种使用上述半导体制造用处理液的图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的实施方式所涉及的收容容器为具备收容有半导体制造用处理液的收容部的收容容器。上述半导体制造用处理液含有选自包括Al、Ca、Cr、Co、Cu、Fe、Pb、Li、Mg、Mn、Ni、K、Ag、Na及Zn的金属物种中的一种或两种以上的金属原子，且以上述半导体制造用处理液的总质量为基准，包含上述金属原子的至少一种的粒子性金属的合计含有率为0.01～100质量ppt。
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公开(公告)号：CN110770137A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880039943.1
申请日：2018-07-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使在收容药液并长时间保管的情况下药液性能也不易经时下降的容器。并且，课题在于提供一种容器的制造方法及药液收容体。容器具有：基材；及涂层，配置于基材上的至少一部分，且包含含有聚烯烃和选自包括Ti、Al、Mg、Zr、Hf、Fe、Ni、Sn、Zn、Cr及Mo的组中的至少1种金属成分的组合物，并且厚度为50μm以上，其中，当组合物含有1种金属成分时，以CA1s/CA2s计算之比RCAs为小于1.0，或者，当组合物含有2种以上的金属成分时，在涂层的至少一部分对2种以上的金属成分分别求出的RCAs的平均值为小于1.0。
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公开(公告)号：CN108885412A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780020558.8
申请日：2017-03-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/304
CPC classification number: G03F7/32 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够减少含有金属原子的颗粒的产生且能够形成良好的图案的半导体制造用处理液及图案形成方法。本发明的实施方式所涉及的半导体制造用处理液包含：由通式(N)所表示的季铵化合物；选自包括阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂及螯合剂的组中的至少一种添加剂；及水。上述半导体制造用处理液包含选自包括Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni及Zn的组中的一种或两种以上的金属原子，且相对于所述添加剂的总质量与上述金属原子的总质量的合计，上述金属原子的总质量为1质量ppt～1质量ppm。
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公开(公告)号：CN118341109A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410630976.0
申请日：2017-04-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够获得降低杂质含量的溶剂及其原料的纯化装置。并且，本发明的课题在于还提供一种纯化方法、制造装置及药液的制造方法。本发明的课题在于提供一种即使在填充药液并保管了规定时间的情况下，药液中的杂质含量也不易增加的容器。并且，本发明的课题在于还提供一种药液容纳体。本发明的纯化装置，对药液进行纯化，且具备蒸馏塔，所述纯化装置中，蒸馏塔的内壁被选自包含氟树脂及经电解抛光的金属材料的组中的至少一种材料涂覆，或者内壁由材料形成，金属材料含有选自包含铬及镍的组中的至少一种，铬及镍的含量的总计相对于金属材料的总质量超过25质量％。
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公开(公告)号：CN118311829A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410404678.X
申请日：2019-07-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种缺陷抑制性优异的药液。并且，提供一种含有上述药液的药液收容体。本发明的药液含有选自由除了烷烃及烯烃以外的化合物、以及癸烷及十一烷组成的组中的1种以上的有机溶剂，该药液还含有选自由碳原子数12～50的烷烃及碳原子数12～50的烯烃组成的组中的1种以上的有机成分，相对于药液的总质量，有机成分的含量为0.10～1,000,000质量ppt。
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