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公开(公告)号：CN111469048B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202010291933.6
申请日：2020-04-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法，所述的测量装置包括基座、Z向宏微复合直线运动进给装置、力传感器、蓝宝石观测窗口、两个单筒显微镜、两个CCD摄像机、两个显微镜支架、XY两向移动工作台、运动控制系统和计算机。本发明利用光学显微镜直接拍摄抛光垫的接触界面，可以获得真实的微观接触图像，结果更加准确可靠。本发明在固定抛光垫样品时，可以保证待测表面和蓝宝石玻璃表面的均匀贴合，避免了接触不均匀现象。本发明利用DIC方法，可以直接获得抛光垫在压缩过程中的位移云图，并准确得到抛光垫表面粗糙层的压缩刚度，为抛光垫微观接触状态的分析提供可靠的数据支撑。
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公开(公告)号：CN111469047B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202010291072.1
申请日：2020-04-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种在线检测抛光垫接触特征的试验装置及其使用方法，所述的试验装置包括基座、单筒显微镜、CCD摄像机、XY两向移动工作台、蓝宝石观测窗口、固定环、配重块、运动控制系统和计算机。本发明属于一种在线检测手段，测量时只需要将装配好的蓝宝石观测窗口放置于抛光垫表面，待测量结束后移除，整个测量过程不破坏抛光垫表面结构，不影响后续的抛光工艺。本发明利用光学显微镜直接获得抛光垫的真实接触图像，试验结果更加准确可靠。本发明可以批量处理微观接触图像，并且利用图像处理软件获得实时的微观接触特征信息：包括真实接触面积率、接触点数目、接触点平均尺寸、接触点分布等，方便对后续修整工艺的指导。
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公开(公告)号：CN113670746B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202110909784.X
申请日：2021-08-09
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种结合微观接触状态分析摩擦磨损特性试验装置和使用方法，所述装置包括Z向进给装置、力传感器、透明试验盒、调平系统、XY移动台、光学显微镜、相机和计算机。本发明测量的接触状态非常接近摩擦磨损过程中微观接触状态，由于进行原位测量避免了取件方式和环境变化导致微观接触状态改变的问题。本发明可用于液体环境下平行度或厚度均匀性不佳的非透明材料摩擦试样微观接触状态及其摩擦磨损特性测量和分析，可通过调平装置调节载荷和接触表面的垂直度，保证实际摩擦磨损过程与测量的微观接触状态一致，促进了微观接触状态对摩擦磨损特性影响研究的发展。
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公开(公告)号：CN111469048A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010291933.6
申请日：2020-04-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法，所述的测量装置包括基座、Z向宏微复合直线运动进给装置、力传感器、蓝宝石观测窗口、两个单筒显微镜、两个CCD摄像机、两个显微镜支架、XY两向移动工作台、运动控制系统和计算机。本发明利用光学显微镜直接拍摄抛光垫的接触界面，可以获得真实的微观接触图像，结果更加准确可靠。本发明在固定抛光垫样品时，可以保证待测表面和蓝宝石玻璃表面的均匀贴合，避免了接触不均匀现象。本发明利用DIC方法，可以直接获得抛光垫在压缩过程中的位移云图，并准确得到抛光垫表面粗糙层的压缩刚度，为抛光垫微观接触状态的分析提供可靠的数据支撑。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111469047A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010291072.1
申请日：2020-04-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种在线检测抛光垫接触特征的试验装置及其使用方法，所述的试验装置包括基座、单筒显微镜、CCD摄像机、XY两向移动工作台、蓝宝石观测窗口、固定环、配重块、运动控制系统和计算机。本发明属于一种在线检测手段，测量时只需要将装配好的蓝宝石观测窗口放置于抛光垫表面，待测量结束后移除，整个测量过程不破坏抛光垫表面结构，不影响后续的抛光工艺。本发明利用光学显微镜直接获得抛光垫的真实接触图像，试验结果更加准确可靠。本发明可以批量处理微观接触图像，并且利用图像处理软件获得实时的微观接触特征信息：包括真实接触面积率、接触点数目、接触点平均尺寸、接触点分布等，方便对后续修整工艺的指导。
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公开(公告)号：CN118746269A
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202410792444.7
申请日：2024-06-19
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于牛顿环原理的回转轴回转误差测量方法，包括以下步骤：调节摄像装置位置与平面反射镜倾角；采集回转轴回转过程中干涉条纹与径向跳动标志物运动图像；对五自由度回转轴回转误差数据进行处理。本发明只采用一个高速相机作为数据采集设备即可获得回转轴的五个自由度误差，结构简单，测得的回转轴误差相较于正常的光学测量更加全面；本发明采用牛顿环干涉条纹的原理减小了对基准件的精度要求，因基准件引入的系统误差更小；本发明采用牛顿环原理和三维工作台即可消除平面基准件安装过程中基准件平面与回转轴回转轴向的垂直度误差，即消除了基准件平面与回转轴回转轴向的垂直度误差对回转轴回转误差中回转轴倾角误差测量的影响。
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公开(公告)号：CN118031843A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202410236895.2
申请日：2024-03-01
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光垫面形和正交网格沟槽在位测量方法，在一次测量过程中，利用每组采集数据中的标准块数据段拟合出机床的倾斜角度，有效的消除了每组数据中机床旋转时产生的倾覆误差，以消除了倾覆误差的标准块数据段为参考，将每组面形高度数据进行平移，有效的消除了抛光盘跳动误差，相较于采用气浮转台、液体静压转台等高精度转台，该设计成本较低；本发明利用两组夹角不为45°倍数的抛光垫面形数据，有效地识别出抛光垫正交网格沟槽结构，测量分析耗时短、效率高，相较于用一条半径数据代替整盘面形的数据处理方法，本发明测量得到了抛光垫正交沟槽结构，在分析工件接触压力分布时拥有更精确的抛光垫面形。
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公开(公告)号：CN117161965A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311060792.7
申请日：2023-08-22
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光垫真实接触状态的原位测量装置及其使用方法，所述装置包括基座、加载机构、Z向进给机构和观测机构，所述基座为中空圆管结构，所述加载机构安装在基座内的下部，所述Z向进给机构安装在基座内的中上部，所述观测机构通过Z向进给机构安装在基座内。本发明利用光学显微镜直接获得抛光垫的真实接触状态图像，测量结果更加准确可靠。本发明测量时只需要将装配好装置放置于抛光垫表面，待测量结束后移除，整个测量过程不破坏抛光垫，不影响后续的抛光工艺。本发明通过砝码块和托码套筒嵌套，可以保证加载的均匀性。本发明通过批量处理真实接触状态图像提取接触特征信息，可以实时分析化学机械抛光状态并指导材料去除稳定性控制。
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公开(公告)号：CN113670746A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202110909784.X
申请日：2021-08-09
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种结合微观接触状态分析摩擦磨损特性试验装置和使用方法，所述装置包括Z向进给装置、力传感器、透明试验盒、调平系统、XY移动台、光学显微镜、相机和计算机。本发明测量的接触状态非常接近摩擦磨损过程中微观接触状态，由于进行原位测量避免了取件方式和环境变化导致微观接触状态改变的问题。本发明可用于液体环境下平行度或厚度均匀性不佳的非透明材料摩擦试样微观接触状态及其摩擦磨损特性测量和分析，可通过调平装置调节载荷和接触表面的垂直度，保证实际摩擦磨损过程与测量的微观接触状态一致，促进了微观接触状态对摩擦磨损特性影响研究的发展。
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