公开(公告)号：CN117161965A

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202311060792.7

申请日：2023-08-22

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 周平 ,  侯长余 ,  邸宏宇 ,  闫英 ,  郭东明

IPC: B24B37/34 ,  B24B49/12 ,  G06V20/69 ,  G06F30/17

Abstract: 本发明公开了一种抛光垫真实接触状态的原位测量装置及其使用方法，所述装置包括基座、加载机构、Z向进给机构和观测机构，所述基座为中空圆管结构，所述加载机构安装在基座内的下部，所述Z向进给机构安装在基座内的中上部，所述观测机构通过Z向进给机构安装在基座内。本发明利用光学显微镜直接获得抛光垫的真实接触状态图像，测量结果更加准确可靠。本发明测量时只需要将装配好装置放置于抛光垫表面，待测量结束后移除，整个测量过程不破坏抛光垫，不影响后续的抛光工艺。本发明通过砝码块和托码套筒嵌套，可以保证加载的均匀性。本发明通过批量处理真实接触状态图像提取接触特征信息，可以实时分析化学机械抛光状态并指导材料去除稳定性控制。