-
公开(公告)号：CN102308256A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080007022.0
申请日：2010-02-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F1/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/72 , G03F1/0076 , G03F1/0092 , G03F1/144 , G03F1/28 , G03F1/30 , G03F1/32 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F1/44 , G03F1/80
Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117976523A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410162351.6
申请日：2017-05-24
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , B29C33/38 , B29C59/02
Abstract: 提供压印用模板基板的制造方法、压印用模板的制造方法及模板。压印用模板基板的制造方法依次包括：具遮光材料层的多级模板基板准备步骤，准备具有第1台阶构造及第2台阶构造且在第1台阶构造的上表面之上及第2台阶构造的上表面之上具有遮光材料层的具遮光材料层的多级模板基板；树脂层形成步骤，在形成在第1台阶构造的上表面之上的遮光材料层之上形成第1树脂层，在形成在第2台阶构造的上表面之上的遮光材料层之上形成第2树脂层；第2树脂层去除步骤，一面将第1树脂层保留，一面将第2树脂层去除；及遮光膜形成步骤，一面将形成在第1台阶构造的上表面之上的遮光材料层保留，一面将形成在第2台阶构造的上表面之上的遮光材料层去除。
-
公开(公告)号：CN102308256B
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201080007022.0
申请日：2010-02-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F1/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/72 , G03F1/0076 , G03F1/0092 , G03F1/144 , G03F1/28 , G03F1/30 , G03F1/32 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F1/44 , G03F1/80
Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。
-
公开(公告)号：CN118974885A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380031542.2
申请日：2023-03-24
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够以更简便的方法形成能够用作保护膜等的固化膜的固化膜形成方法。上述方法包括：向基板(3)供给固化性树脂(2)的工序(图1A)，所述固化性树脂(2)包含分子中具有硅氧烷键且具有至少一个聚合性官能团的聚合性化合物、聚合引发剂和反应性交联剂；使上述固化性树脂固化的工序(图1B)；以及对上述固化后的固化性树脂实施等离子体处理或氧化处理，将上述固化性树脂中所含的有机成分分解，使硅氧烷聚合部残留，由此形成固化膜(1)的工序(图1D)。
-
公开(公告)号：CN109155237B
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN201780031739.0
申请日：2017-05-24
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C33/38 , B29C59/02
Abstract: 为了一面维持必要的转印图案区域的高度一面抑制压印时曝光的光泄露的影响，在用于将凹凸构造的转印图案(23)转印到被转印基板之上的树脂的压印光刻的模板(1)和模板坯中构成为，在基部(10)的主面之上形成第1台阶构造阶构造(22)，并利用遮光膜(21)覆盖上述第1台阶构造(21)的上表面的、上述第2台阶构造(22)的外侧的区域。(21)，且在上述第1台阶构造(21)之上形成第2台
-
公开(公告)号：CN109155237A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780031739.0
申请日：2017-05-24
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C33/38 , B29C59/02
Abstract: 为了一面维持必要的转印图案区域的高度一面抑制压印时曝光的光泄露的影响，在用于将凹凸构造的转印图案(23)转印到被转印基板之上的树脂的压印光刻的模板(1)和模板坯中构成为，在基部(10)的主面之上形成第1台阶构造(21)，且在上述第1台阶构造(21)之上形成第2台阶构造(22)，并利用遮光膜(21)覆盖上述第1台阶构造(21)的上表面的、上述第2台阶构造(22)的外侧的区域。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.022 seconds)
