公开(公告)号：CN101268417A

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200680034585.2

申请日：2006-09-19

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 藤川润二 ,  岛田周 ,  吉田雄一 ,  佐佐木志保 ,  天野刚 ,  伊藤公夫 ,  登山伸人 ,  毛利弘

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/46 ,  G03F1/50

Abstract: 本发明涉及一种具有灰度的光掩模及其制造方法，在用于减少光刻工序数的具有灰度的光掩模中，使用通用的光掩模坯料，防止遮光膜的反射率升高，且半透明膜图案形成时的对准容易，可在遮光膜图案上阶梯覆盖良好地形成半透明膜，所述具有灰度的光掩模(100)，在透明基板上具有所希望的图案，且形成图案的膜由实质上不能透过曝光光的遮光膜(114)、和以所希望的透射率透过曝光光的半透明膜(113)构成，在透明基板(101)上混在按顺序层叠遮光膜(114)和半透明膜(113)而存在的遮光区域、只有半透明膜(113)存在的半透明区域、及遮光膜(114)和半透明膜(113)都不存在的透射区域，其特征在于，半透明膜(113)相对于曝光光具有防反射功能。

公开(公告)号：CN102308256A

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN201080007022.0

申请日：2010-02-04

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 长井隆治 ,  高见泽秀吉 ,  毛利弘 ,  森川泰考 ,  早野胜也

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/0076 ,  G03F1/0092 ,  G03F1/144 ,  G03F1/28 ,  G03F1/30 ,  G03F1/32 ,  G03F1/36 ,  G03F1/38 ,  G03F1/44 ,  G03F1/80

Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。

公开(公告)号：CN102308256B

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201080007022.0

申请日：2010-02-04

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 长井隆治 ,  高见泽秀吉 ,  毛利弘 ,  森川泰考 ,  早野胜也

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/0076 ,  G03F1/0092 ,  G03F1/144 ,  G03F1/28 ,  G03F1/30 ,  G03F1/32 ,  G03F1/36 ,  G03F1/38 ,  G03F1/44 ,  G03F1/80

Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。