公开(公告)号：CN101268417A

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200680034585.2

申请日：2006-09-19

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 藤川润二 ,  岛田周 ,  吉田雄一 ,  佐佐木志保 ,  天野刚 ,  伊藤公夫 ,  登山伸人 ,  毛利弘

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/46 ,  G03F1/50

Abstract: 本发明涉及一种具有灰度的光掩模及其制造方法，在用于减少光刻工序数的具有灰度的光掩模中，使用通用的光掩模坯料，防止遮光膜的反射率升高，且半透明膜图案形成时的对准容易，可在遮光膜图案上阶梯覆盖良好地形成半透明膜，所述具有灰度的光掩模(100)，在透明基板上具有所希望的图案，且形成图案的膜由实质上不能透过曝光光的遮光膜(114)、和以所希望的透射率透过曝光光的半透明膜(113)构成，在透明基板(101)上混在按顺序层叠遮光膜(114)和半透明膜(113)而存在的遮光区域、只有半透明膜(113)存在的半透明区域、及遮光膜(114)和半透明膜(113)都不存在的透射区域，其特征在于，半透明膜(113)相对于曝光光具有防反射功能。