公开(公告)号：CN103229046B

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201180057111.0

申请日：2011-08-22

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 前川慎志 ,  佐藤真史

IPC: G01N21/956 ,  G01N21/93 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/93 ,  H01L21/0276 ,  H01L22/12 ,  H01L22/30

Abstract: 本发明提供一种用于评价包含在有机材料中的异物缺陷的评价用基板及其缺陷检查方法和缺陷检查装置。本发明的评价用基板的特征在于，具备：基板；配置在上述基板上的第一膜；配置在上述第一膜上并在其上形成包含上述有机材料的膜的第二膜，上述第一膜被设定为，关于在上述第二膜的蚀刻中使用的蚀刻剂的蚀刻速率比上述第二膜的蚀刻低，并且可光学检测的缺陷的检测下限值小于或等于上述第二膜的缺陷的检测下限值，上述第二膜的膜厚度被设定为使用缺陷检查装置等光学测量的雾度（Haze）值取最小值或极小值附近的值。

公开(公告)号：CN103229046A

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201180057111.0

申请日：2011-08-22

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 前川慎志 ,  佐藤真史

IPC: G01N21/956 ,  G01N21/93 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/93 ,  H01L21/0276 ,  H01L22/12 ,  H01L22/30

Abstract: 本发明提供一种用于评价包含在有机材料中的异物缺陷的评价用基板及其缺陷检查方法和缺陷检查装置。本发明的评价用基板的特征在于，具备：基板；配置在上述基板上的第一膜；配置在上述第一膜上并在其上形成包含上述有机材料的膜的第二膜，上述第一膜被设定为，关于在上述第二膜的蚀刻中使用的蚀刻剂的蚀刻速率比上述第二膜的蚀刻低，并且可光学检测的缺陷的检测下限值小于或等于上述第二膜的缺陷的检测下限值，上述第二膜的膜厚度被设定为使用缺陷检查装置等光学测量的雾度（Haze）值取最小值或极小值附近的值。