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公开(公告)号:CN103282701B
公开(公告)日:2015-06-17
申请号:CN201280004505.4
申请日:2012-01-12
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本华尔卡工业株式会社
IPC: F16J15/08
CPC classification number: F16J15/08 , F16J15/027 , F16J15/0881 , F16J15/0893
Abstract: 提供一种能以比现有技术小的紧固力发挥出与现有技术相比同等以上的较高密封性的金属垫片。其是由形成有周向的开口且截面呈大致C字状的环状的外环和嵌装于该外环内侧的环状的内环构成,并通过在安装于构件间的状态下沿上下方向被按压来对构件间进行密封的环状的金属垫片,内环的截面形成为多边形,包括:与外环的内侧面的上侧抵接的上侧角部;与外环的内侧面的下侧抵接的下侧角部;以位于上侧角部与下侧角部之间的方式形成于内环的内周侧的内周侧角部;以及以位于上侧角部与下侧角部之间的方式形成于内环的外周侧的外周侧角部,在上侧角部与内周侧角部及外周侧角部之间、下侧角部与内周侧角部及外周侧角部之间分别形成有内角比180°大的弯曲部。
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公开(公告)号:CN102037260A
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:CN200980118443.8
申请日:2009-05-07
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本华尔卡工业株式会社
IPC: F16J15/08
CPC classification number: F16J15/0887 , F16J15/0893 , F16L23/20
Abstract: 一种金属垫片,能以小的旋紧力获得高密封性,而且,在施加一定的旋紧负载的情况下的变形量大,因此,即使在以手动作业进行螺栓固定的情况下,也能进行螺栓旋紧的管理,并不会对对象侧的凸缘面造成损伤。金属垫片(10)由利用周向的开口而形成截面大致呈C字状的外环(12)和以嵌合状态配置于该外环(12)内侧的内环(14)构成,其特征是,内环(14)例如由截面呈四边形的多棱体构成,且该内环(14)的彼此相对的一对角部隔着外环(12)的开口分别配置于两侧的内周面。
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公开(公告)号:CN102037260B
公开(公告)日:2013-09-11
申请号:CN200980118443.8
申请日:2009-05-07
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本华尔卡工业株式会社
IPC: F16J15/08
CPC classification number: F16J15/0887 , F16J15/0893 , F16L23/20
Abstract: 一种金属垫片,能以小的旋紧力获得高密封性,而且,在施加一定的旋紧负载的情况下的变形量大,因此,即使在以手动作业进行螺栓固定的情况下,也能进行螺栓旋紧的管理,并不会对对象侧的凸缘面造成损伤。金属垫片(10)由利用周向的开口而形成截面大致呈C字状的外环(12)和以嵌合状态配置于该外环(12)内侧的内环(14)构成,其特征是,内环(14)例如由截面呈四边形的多棱体构成,且该内环(14)的彼此相对的一对角部隔着外环(12)的开口分别配置于两侧的内周面。
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公开(公告)号:CN103282701A
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN201280004505.4
申请日:2012-01-12
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本华尔卡工业株式会社
IPC: F16J15/08
CPC classification number: F16J15/08 , F16J15/027 , F16J15/0881 , F16J15/0893
Abstract: 提供一种能以比现有技术小的紧固力发挥出与现有技术相比同等以上的较高密封性的金属垫片。其是由形成有周向的开口且截面呈大致C字状的环状的外环和嵌装于该外环内侧的环状的内环构成,并通过在安装于构件间的状态下沿上下方向被按压来对构件间进行密封的环状的金属垫片,内环的截面形成为多边形,包括:与外环的内侧面的上侧抵接的上侧角部;与外环的内侧面的下侧抵接的下侧角部;以位于上侧角部与下侧角部之间的方式形成于内环的内周侧的内周侧角部;以及以位于上侧角部与下侧角部之间的方式形成于内环的外周侧的外周侧角部,在上侧角部与内周侧角部及外周侧角部之间、下侧角部与内周侧角部及外周侧角部之间分别形成有内角比180°大的弯曲部。
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公开(公告)号:CN102597587A
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201080050629.7
申请日:2010-10-29
Applicant: 株式会社富士金 , 东京毅力科创株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: F16K31/126 , F16K1/34 , F16K51/02
CPC classification number: F16K31/126 , F16K1/34 , F16K25/005 , Y10T137/776
Abstract: 本发明提供一种提高阀的开关精度的调整阀装置。调整阀装置(300)包括:具有阀体头部(310a)的阀体(310);向阀体传递动力的动力传递部件(320a);以能够滑动的方式内置阀体的阀箱(305);第一波纹管(320b),相对于动力传递部件在与阀体相反一侧的位置形成第一空间(Us);第二波纹管(320c),相对于动力传递部件在阀体一侧的位置形成第二空间(Ls);与第一空间连通的第一配管(320d);和与第二空间连通的第二配管(320e)。根据从供给第一空间和供给第二空间的工作流体的压力比率,从动力传递部件向阀体传递动力,由此,通过阀体头部开关形成于阀箱中的搬送路径。阀体头部的维氏硬度比阀体头部所接触的搬送路径的阀座面的维氏硬度硬,其硬度差大概是200~300Hv。
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公开(公告)号:CN112088422B
公开(公告)日:2023-11-28
申请号:CN201980029833.1
申请日:2019-04-26
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 野村微科学股份有限公司
IPC: H01L21/304 , B01F21/00 , B01F23/23 , B01F25/40 , C02F1/68 , G03F7/42 , H01L21/027 , C11D7/18 , C11D7/54
Abstract: 对于以往的臭氧水而言,当今的半导体制造领域所要求的抗蚀剂去除速度/清洗力尚不充分,在食材的清洗、加工设备/器具的清洗、手指的清洗等领域、进而在消臭/脱臭/除菌/食材保鲜等领域中,也无法充分满足进一步提高杀菌/除菌/消臭/脱臭/清洗效果的期待。上述课题可通过将臭氧水的制造中的某些特定的多个制造参数的值规定为某一特定范围来解决。
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公开(公告)号:CN101243355B
公开(公告)日:2011-12-14
申请号:CN200680030334.7
申请日:2006-08-14
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 可乐丽股份有限公司 , 夏普株式会社
IPC: G02F1/13357 , F21V8/00 , F21Y103/00
CPC classification number: G02B6/0046 , G02B6/002 , G02B6/0053 , G02F1/133605 , G02F1/133611 , G02F1/133615
Abstract: 本发明提供一种液晶显示器及导光板。大型液晶显示器(100)具有配置于液晶面板(1)的背面侧的导光板(3)。导光板(3)的表面为平面,背面为凹曲面。另外,与热阴极型荧光灯(2a、2b)对置的导光板(3)的上下端面为向这些灯突出的凸状。来自荧光灯的白色光直接或被反射镜(4a、4b)反射而入射到导光板的上下端面,由导光板的表背面反射而同时进到导光板的内部。在导光板的表面,白色光的一部分通过导光部(5)向液晶面板(1)的背面照射。
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公开(公告)号:CN112088422A
公开(公告)日:2020-12-15
申请号:CN201980029833.1
申请日:2019-04-26
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 野村微科学股份有限公司
IPC: H01L21/304 , B01F1/00 , B01F3/04 , B01F5/06 , C02F1/68 , G03F7/42 , H01L21/027 , C11D7/18 , C11D7/54
Abstract: 对于以往的臭氧水而言,当今的半导体制造领域所要求的抗蚀剂去除速度/清洗力尚不充分,在食材的清洗、加工设备/器具的清洗、手指的清洗等领域、进而在消臭/脱臭/除菌/食材保鲜等领域中,也无法充分满足进一步提高杀菌/除菌/消臭/脱臭/清洗效果的期待。上述课题可通过将臭氧水的制造中的某些特定的多个制造参数的值规定为某一特定范围来解决。
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公开(公告)号:CN101218376A
公开(公告)日:2008-07-09
申请号:CN200680020909.7
申请日:2006-06-16
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 三菱化学株式会社 , 日本陶瓷科技股份有限公司
IPC: C23C28/00 , C23C8/10 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/16 , C25D11/18 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: C23C4/02 , C23C8/80 , C23C28/00 , C23C28/042 , C25D11/02 , C25D11/04 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/16 , C25D11/18 , Y10T428/26 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
Abstract: 提供一种使抑制反应生成物堆积到半导体或平板显示器制造装置等的处理室内壁等上、因内壁等的腐蚀造成的金属污染、放出气体造成的工艺不稳定性等多个工艺成为可能的多功能制造装置系统及用于该系统的保护皮膜构造。在金属材料的表面上具有作为基底层的第1皮膜层,再形成200μm左右的第2皮膜层,该第1皮膜层具有通过母材的直接氧化形成的1μm以下膜厚的氧化物皮膜。通过该构成,可以使第2层的保护膜对离子和自由基具有耐蚀性,使第1层的氧化物皮膜起到防止因分子和离子扩散到第2层保护膜中使母材金属表面受到腐蚀的保护层的效果,降低各金属构件、工艺腔内表面对基板造成的金属污染。可以抑制因母材和第2层的保护膜界面的腐蚀造成的第2层保护膜密着力下降而导致的第2层保护膜的剥离。
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公开(公告)号:CN103858212A
公开(公告)日:2014-06-11
申请号:CN201280047608.9
申请日:2012-07-24
Applicant: 株式会社富士金 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , C23C16/448
CPC classification number: C23C16/4481
Abstract: 本发明提供能够使气化器内的压力的举动稳定的气化器。本发明的气化器具备:腔,其具备流入口以及流出口;加热装置,其加热该腔内;隔壁构造体(13),其设于该腔内,并将该腔内的液体材料划分到多个区划;以及液体流通部(20),其设于隔壁构造体(13)的下部,以容许利用隔壁构造体(13)划分的各区划之间的液体流通,所述隔壁构造体具有格子状、蜂窝状、网孔状、或管状的隔壁。
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