一种高可靠性绝缘栅双极晶体管及其制作方法

    公开(公告)号:CN107256885B

    公开(公告)日:2022-08-26

    申请号:CN201710524879.3

    申请日:2017-06-30

    Abstract: 本发明提供了一种高可靠性绝缘栅双极晶体管(IGBT),包括N型单晶硅衬底,位于衬底上表面的P阱,P阱深度不小于P阱结深的隔离槽及槽底氧化层,相邻隔离槽之间的浮空P阱,紧靠P阱上表面的N+源区,位于N+源区下方且与隔离槽相邻的P+浅阱,位于衬底上表面的栅氧化层,位于两P阱之间的厚度大于栅氧化层的颈区氧化层,颈区氧化层上表面依次设有二氧化硅层、多晶硅层、介质层,跨越并暴露N+源区和P+浅阱并与相邻隔离槽交叠的发射极和发射极接触孔槽,位于衬底下表面的掺杂层和集电极,在常规的自对准平面型IGBT结构基础上,加入隔离槽及槽底局域氧化层结构,改善了IGBT器件的整体性能,使之成为具有抗辐射能力的高可靠性IGBT。

    RC-IGBT器件的背面加工方法

    公开(公告)号:CN107799416A

    公开(公告)日:2018-03-13

    申请号:CN201711012160.8

    申请日:2017-10-26

    Abstract: 本发明涉及一种RC-IGBT器件的背面加工方法,其包括如下步骤:步骤1、提供制备有正面元胞结构的RC-IGBT晶圆,并将RC-IGBT晶圆的背面减薄至所需的厚度;步骤2、对RC-IGBT晶圆背面进行P型杂质离子注入;步骤3、将注入基片键合在上述RC-IGBT晶圆的背面;步骤4、将N型杂质离子注入到RC-IGBT晶圆的背面;步骤5、将注入基片与RC-IGBT晶圆的背面分离,并激活RC-IGBT晶圆背面的P型杂质离子与N型杂质离子;步骤6、对上述RC-IGBT晶圆的背面金属化。本发明工艺步骤简单,能够省去RC-IGBT晶圆背面N型杂质图形化注入所需的光刻工序,有效缩短RC-IGBT晶圆的加工周期,降低加工成本,与现有工艺兼容,安全可靠。

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