一种在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统及抛光方法

    公开(公告)号:CN113894424B

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202111285700.6

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 本发明提供了一种在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统及抛光方法,涉及激光加工技术领域,其中在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统,其特征在于,包括:密封舱,密封舱内适于放置抛光试样,密封舱上设置有充气阀;真空泵,真空泵与密封舱相连接以抽取密封舱内的气体;激光器,激光器与密封舱相连接,激光器包括激光发射器、激光工作头和光纤传导结构,激光工作头设置于密封舱内部,光纤传导结构通过光纤过真空通管穿过密封舱的通孔与设置于密封舱的外部的激光发射器相连通。本发明在实现真空环境或多种气氛环境下激光抛光的同时,成本低,速率快,抛光效果好且激光传输过程中的能量损耗少。

    一种水下激光水流复合清洗系统及方法

    公开(公告)号:CN112620255B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN202011479148.X

    申请日:2020-12-15

    Abstract: 本发明提供了一种水下激光水流复合清洗系统及方法,涉及激光清洁设备技术领域,包括激光清洗装置和水循环过滤装置,所述激光清洗装置包括适于清洗待清洗基材的激光清洗工作头,所述激光清洗工作头的内部包括适于激光发射的第一腔室、适于水流清洗的第二腔室以及设置于所述第一腔室和所述第二腔室之间的密封件,所述第一腔室和所述第二腔室沿激光的发射方向从上到下依次设置于所述激光清洗工作头的内部,且所述第二腔室与所述水循环过滤装置相连通适于水流的循环流通。本发明能够实现水流与激光复合清洗,在激光清洗和水流冲洗复合清洗的同时用水流带走清洗后的污物,保证激光到达待清洗基材表面的强度,同时保护环境,减少污染。

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