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公开(公告)号：CN115981120A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310182378.7
申请日：2023-03-01
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明涉及一种用于光刻系统的基于数字微镜阵列的光栅对准测量装置，属于光刻技术领域；本发明采用双波长激光光束进行照明，利用调制系统对照明光束进行调制，使用空间滤波器允许光栅对准标记的特定级次衍射光束透过，并利用数字微镜阵列对透过空间滤波器的衍射光束进行偏折，最后利用多通道光电探测模块对透过参考光栅标记的干涉信号进行同步探测与处理，实现了数字微镜阵列替代传统对准测量中的光楔阵列或光楔板来对多级次衍射光束进行偏折，提高了系统的工艺适用性。本发明结合数字微镜阵列、多通道光电探测模块和空间滤波技术，解决了复杂光束偏转光路影响探测信号稳定性和一致性的问题，从而提高了系统的对准性能。
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公开(公告)号：CN115981121A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310182380.4
申请日：2023-03-01
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明涉及一种用于硅片与工件台之间的光栅衍射光束干涉离轴对准测量装置，属于光刻技术领域；本发明采用四通道合束器对四种不同波长的激光光束进行合束，利用光束调控模块对四通道合束器输出的光束进行处理，使用自参考干涉镜组实现光栅多级次混叠衍射信号的生成，使用归一化信号探测模块对多级次对准信号进行采集，最后利用软件模块对采集的对准信号进行分析与处理，提高了系统的工艺适应性。本发明结合光束调控模块、两组自参考干涉镜组与归一化信号探测模块，解决了激光光束偏振态、光强波动以及系统内部杂散光束等因素影响对准信号质量的问题，从而提高了系统的信号探测精度和稳定性。
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