长管道内部等离子体密度实时监测系统及其应用方法

    公开(公告)号:CN116087122A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202310072520.2

    申请日:2023-01-17

    Abstract: 长管道内部等离子体密度实时监测系统及其应用方法,本发明为了解决现有长管道内部镀膜时等离子体密度难以检测的问题。本发明长管道内部等离子体密度实时监测系统中在减震平台的台面左右两侧设置有支座,导轨上滑动连接有三个移动架,三个移动架上分别设置有长焦距透镜、短焦距透镜和光谱探头,导轨上固定连接有固定支架,可伸缩暗室设置在固定支架上,长焦距透镜、短焦距透镜和探头位于可伸缩暗室内部,可伸缩暗室的敞口端与镀膜管道对接,可伸缩暗室的另一端封闭,探头通过连接线与光谱分析仪相连。本发明能适合长度较长的管道内放电等离子体监测,实时的自动监控管道内任意位置等离子体密度,并绘制出管道内等离子体光谱强度的分布。

    一种铜表面DLC膜层制备方法

    公开(公告)号:CN115627457B

    公开(公告)日:2024-04-23

    申请号:CN202211006452.1

    申请日:2022-08-22

    Abstract: 一种铜表面DLC膜层制备方法,本发明涉及一种铜表面DLC膜层制备方法。本发明的目的是为了解决现有技术中铜基体表面沉积DLC膜层结合力差、耐腐蚀性差的问题。本发明通过在铜基体表面引入适量的氧元素,采用高压脉冲的电离氧气,获得高能氧离子,轰击铜基体表面,达到氧注入铜基体和活化铜表面形成适量的氧化铜的效果。之后,进行氧与四甲基硅烷混合气体放电,沉积打底层,目的为了形成Cu‑O‑Si网链结构,提高了Cu与类金刚石膜层之间的结合力。本发明应用于DLC膜层制备领域。

    一种铜表面DLC膜层制备方法

    公开(公告)号:CN115627457A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211006452.1

    申请日:2022-08-22

    Abstract: 一种铜表面DLC膜层制备方法,本发明涉及一种铜表面DLC膜层制备方法。本发明的目的是为了解决现有技术中铜基体表面沉积DLC膜层结合力差、耐腐蚀性差的问题。本发明通过在铜基体表面引入适量的氧元素,采用高压脉冲的电离氧气,获得高能氧离子,轰击铜基体表面,达到氧注入铜基体和活化铜表面形成适量的氧化铜的效果。之后,进行氧与四甲基硅烷混合气体放电,沉积打底层,目的为了形成Cu‑O‑Si网链结构,提高了Cu与类金刚石膜层之间的结合力。本发明应用于DLC膜层制备领域。

    一种细长管道内壁同步清洗镀膜装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN117551969A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202311625370.X

    申请日:2023-11-30

    Abstract: 一种细长管道内壁同步清洗镀膜装置及其使用方法,它属于表面处理领域。它解决了现有细长管道内镀膜涂层均匀性差,污染物难以排出的问题。装置:包括电源Ⅰ、进水管Ⅰ、进气管Ⅰ、出水管Ⅰ、法兰Ⅰ、真空室、进气孔Ⅰ、卡具Ⅰ、靶Ⅰ、导轨、滑块、控制器、往复电机、待镀管、抽气口、靶Ⅱ、卡具Ⅱ、进气孔Ⅱ、法兰Ⅱ、出水管Ⅱ、进气管Ⅱ、进水管Ⅱ和电源Ⅱ。本发明装置采用相邻的两个柱状短靶同时进行细长管道内清洗和镀膜,保证了镀膜区域的清洁性和基体表面活性;保证了沉积膜层的均匀性,并避免了能够移动的装置与待镀管内壁的接触污染;通过控制器实现对待镀管运动方向和速度,以及电源极性和参数的自动控制,确保工艺过程的稳定性和连续性。

    一种等离子体碳化橡胶表面增加润滑性的方法

    公开(公告)号:CN116607130A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202310562516.4

    申请日:2023-05-18

    Abstract: 一种等离子体碳化橡胶表面增加润滑性的方法,本发明涉及一种等离子体碳化橡胶表面增加润滑性的方法。本发明的目的是为了解决现有技术在橡胶基体表面摩擦系数大,耐磨性差的问题,本发明采用等离子体技术处理橡胶表面,轰击掉橡胶表面的H元素,在橡胶表面形成一层碳化层。之后橡胶表面进行C注入,提高膜基结合力,再沉积含Si的过渡层,最后沉积DLC膜层。沉积类金刚石膜层的橡胶摩擦系数仅0.22。本发明应用于橡胶表面耐磨减磨处理技术领域。

    长管道内部镀膜分段式进气阳极电位调制等离子体均匀装置

    公开(公告)号:CN116031133A

    公开(公告)日:2023-04-28

    申请号:CN202310058771.5

    申请日:2023-01-17

    Abstract: 长管道内部镀膜分段式进气阳极电位调制等离子体均匀装置,本发明为了解决现有长管道内表面膜层沉积不均匀的问题。本发明分段式进气阳极电位调制等离子体均匀装置中的分段导气管阳极是在中心导管的周向设置有多个六边形管,多个分段导气管阳极依次相连形成导气管组件,导气管组件的中心导管内穿设有多根绝缘导线和拉紧钢丝,每根绝缘导线分别与分段导气管阳极中的导线接头电连,导气管组件中相邻分段导气管阳极之间插接有绝缘接头,且导气管组件的两端插接有端部绝缘接头,端部绝缘接头上连接有波纹管,波纹管与拉紧装置相连。本发明可根据被镀管道的长短,进行任意的组合增减导气管,调节进气的均匀性,提高管道内镀膜均匀性和膜层质量。

    一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法

    公开(公告)号:CN113293357B

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202110574319.5

    申请日:2021-05-25

    Abstract: 一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法,本发明一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法。本发明的目的是为了解决现有长管道内壁沉积类金刚石涂层过程中出现的等离子体密度低,膜层较厚之后绝缘沉积效率低的问题,本发明将射频和脉冲电源通过射频与脉冲的匹配电源网络复合连接,以Ar气、TMS和乙炔为反应气体,经过对管内壁的打磨清洗干燥、辉光刻蚀、沉积过渡层、将DLC涂层沉积于(长0.2m‑30m,直径50mm‑500mm)管内表面,膜的厚度达10μm以上,膜层沉积速率0.2μm/min。本发明应用于材料制造领域中。

    一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法

    公开(公告)号:CN113293357A

    公开(公告)日:2021-08-24

    申请号:CN202110574319.5

    申请日:2021-05-25

    Abstract: 一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法,本发明一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法。本发明的目的是为了解决现有长管道内壁沉积类金刚石涂层过程中出现的等离子体密度低,膜层较厚之后绝缘沉积效率低的问题,本发明将射频和脉冲电源通过射频与脉冲的匹配电源网络复合连接,以Ar气、TMS和乙炔为反应气体,经过对管内壁的打磨清洗干燥、辉光刻蚀、沉积过渡层、将DLC涂层沉积于(长0.2m‑30m,直径50mm‑500mm)管内表面,膜的厚度达10μm以上,膜层沉积速率0.2μm/min。本发明应用于材料制造领域中。

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