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公开(公告)号：CN116732486A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310717498.2
申请日：2023-06-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种细长管筒状工件内壁清洗及镀膜的一体化装置及其使用方法，它属于表面处理领域。它解决了现有管筒工件内镀膜过程中等离子体清洗难，清洗效果差，污染物难以排出的问题。装置：包括清洗电源、真空室、支架导轨、靶电源、阳极、待镀管、靶和进气管；所述支架导轨包括管支架、立柱和底座，其中管支架一端连接待镀管，另一端通过立柱内的导轨槽与立柱相连，管支架可沿导轨槽线性滑动。本发明在清洗阶段先将待镀管和靶分离，采用待镀管空心阴极放电和靶磁控放电同时进行的方式，有效解决待镀管和靶清洗过程互相污染的问题，实现了污染物的顺利排出；通过待镀管在支架导轨的线性滑动实现清洗和镀膜过程的衔接。本发明的装置简单，操作便捷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115786847A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211599296.4
申请日：2022-12-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种直流复合双极性脉冲进行细长管筒内磁控溅射的方法，它属于磁控溅射镀膜领域。它解决了现有管筒件内放电难，稳定性差，膜层质量差的问题。本发明中待镀管和柱状靶分别接电源正极和负极，在二者之间进行二极放电。放电电源采用直流复合双极性脉冲电源，放电模式可在直流、脉冲、双极性脉冲以及直流复合双极性脉冲的放电模式中进行切换，通过直流部分增强放电稳定性和沉积速率；通过负脉冲放电增强离化，为后续正脉冲的牵引做准备；通过正脉冲牵引等离子体中离子加速向待镀管运动，对膜层进行轰击夯实，改善膜层质量，最终实现细长管筒内壁快速、高质量的磁控溅射膜层制备。本发明适用于细长管筒内壁磁控溅射镀膜领域。
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公开(公告)号：CN119876872A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411973794.X
申请日：2024-12-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/35
Abstract: 一种基于常规柱靶放电的磁控溅射装置改进的阴极靶外置缺口阳极罩及使用方法。它属于表面处理领域。它解决了现在方法存在靶基距小，无法插入阳极而导致等离子体能量的有效调节受到限制的问题。本发明在柱状阴极靶材的外部设置阳极罩，柱状阴极靶材、阳极罩和细长管筒件同轴设置且均可轴向旋转。本发明将放电面从整个圆周固定为具有轴向的截面的部分圆柱的平面，同时，在柱状靶外围包覆阳极罩，阳极罩为侧面开有轴向缺口的圆管，端面呈弧形，单侧开口，增加了靶面到阳极罩的放电间距，从而降低内置柱状靶的放电难度，等离子体能量会受到电场的有效调控；实现靶面和细长管筒件内壁的同步清洗，通过匀速旋转细长管筒件，实现了内壁均匀高效涂层沉积。
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公开(公告)号：CN119776786A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411973795.4
申请日：2024-12-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种空心阴极自溅射在细长管筒件内壁快速均匀沉积薄膜的装置。它属于表面处理领域。它解决了常规方法无法在细长管筒件内有效放电，等离子体能量受控调节差和沉积薄膜的均匀性差的问题。装置：包括空心阴极靶材、细长管筒件、阳极杆、空心阴极电源和偏压电源。本发明利用空心阴极的开口方向为沿轴方向，而其阳极可与其同轴置于管内，细长管筒件连接偏压负极，正极连接阳极杆，二者产生的等离子体在阳极与细长管筒件之间偏压电场的作用下，可在细长管筒件内壁进行可控沉积，有效实现对等离子体能量的调节。同时，通过对细长管筒件进行牵引移动，可实现放电区域与细长管筒件内壁不同位置的有效接触，实现细长管筒件内部全位置的涂层均匀有效沉积。
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公开(公告)号：CN117551969A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311625370.X
申请日：2023-11-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种细长管道内壁同步清洗镀膜装置及其使用方法，它属于表面处理领域。它解决了现有细长管道内镀膜涂层均匀性差，污染物难以排出的问题。装置：包括电源Ⅰ、进水管Ⅰ、进气管Ⅰ、出水管Ⅰ、法兰Ⅰ、真空室、进气孔Ⅰ、卡具Ⅰ、靶Ⅰ、导轨、滑块、控制器、往复电机、待镀管、抽气口、靶Ⅱ、卡具Ⅱ、进气孔Ⅱ、法兰Ⅱ、出水管Ⅱ、进气管Ⅱ、进水管Ⅱ和电源Ⅱ。本发明装置采用相邻的两个柱状短靶同时进行细长管道内清洗和镀膜，保证了镀膜区域的清洁性和基体表面活性；保证了沉积膜层的均匀性，并避免了能够移动的装置与待镀管内壁的接触污染；通过控制器实现对待镀管运动方向和速度，以及电源极性和参数的自动控制，确保工艺过程的稳定性和连续性。
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公开(公告)号：CN119800279A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411973797.3
申请日：2024-12-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种预离化空心阴极管内放电在细长管筒件内壁快速均匀沉积薄膜的装置及使用方法。它属于表面处理领域。它解决了空心阴极靶变形失效以及难以在细长管筒件内壁均匀而快速沉积大厚度薄膜的问题。装置中包括预离化电源、预离化离子源和阳极环构成的预离化装置；预离化离子源、阳极环、空心阴极靶材、细长管筒件和阳极杆同轴设置。本发明通过设置预离化离子源，降低了空心阴极靶材放电难度，提高了空心阴极靶材放电强度，减少了空心阴极靶材端口热输入，避免了端口过热变形失效，进而提高了薄膜的沉积速率，通过往复机构带动细长管筒件与空心阴极靶材放电区域的相对运动，实现了细长管筒件内等离子体放电和均匀而快速沉积大厚度薄膜的问题。
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