一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN114935592A

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202210474732.9

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用,属于光电材料和探测器的制备技术领域。本发明使用操作简便、过程可控的一步溶剂热法制备出了Bi2Se3纳米片/Bi3Se4纳米线复合材料,其中两种组分的比重可以通过调节Se源的摩尔量来调控。制备方法简单,纳米结构接触紧密,以该复合材料为工作电极制备的自供能光电探测器响应迅速,在近红外‑可见‑紫外波段均有较强的光电流响应,相比基于纯相Bi2Se3纳米片制备的自供能光电探测器,其探测性能有很大提升,能够有效地抑制光生电子‑空穴的复合。Bi2Se3纳米片/Bi3Se4纳米线复合材料的制备对未来发展Bi‑Se双元素材料的异质结构具有较高的参考价值。

    一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN114935592B

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202210474732.9

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种硒化铋纳米片/四硒化三铋纳米线复合材料的制备方法及应用,属于光电材料和探测器的制备技术领域。本发明使用操作简便、过程可控的一步溶剂热法制备出了Bi2Se3纳米片/Bi3Se4纳米线复合材料,其中两种组分的比重可以通过调节Se源的摩尔量来调控。制备方法简单,纳米结构接触紧密,以该复合材料为工作电极制备的自供能光电探测器响应迅速,在近红外‑可见‑紫外波段均有较强的光电流响应,相比基于纯相Bi2Se3纳米片制备的自供能光电探测器,其探测性能有很大提升,能够有效地抑制光生电子‑空穴的复合。Bi2Se3纳米片/Bi3Se4纳米线复合材料的制备对未来发展Bi‑Se双元素材料的异质结构具有较高的参考价值。

    硒化铋/氮化镓紫外-红外宽波段探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113257933B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202110580066.2

    申请日:2021-05-26

    Abstract: 本发明公开了一种硒化铋/氮化镓紫外‑红外宽波段探测器及其制备方法,所述探测器包括GaN衬底、Bi2Se3层和金电极,GaN衬底上生长的Bi2Se3层,GaN与Bi2Se3之间形成Bi2Se3/GaN异质结,金电极设置在GaN衬底和Bi2Se3层上,具体制备方法如下:一、在蓝宝石衬底上利用CVD技术生长Bi2Se3层;二、利用磁控溅射技术在GaN衬底和Bi2Se3层表面沉积Au电极,得到Bi2Se3/GaN紫外‑红外宽波段探测器。本发明实现了200~4000nm超宽光谱的光电探测器,利用Bi2Se3/GaN异质结单一结构,实现宽光谱探测。与紫外、红外多个器件叠加实现紫外‑红外探测相比,器件结构简单,降低了系统的体积、功耗和成本。

    硒化铋/氮化镓紫外-红外宽波段探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113257933A

    公开(公告)日:2021-08-13

    申请号:CN202110580066.2

    申请日:2021-05-26

    Abstract: 本发明公开了一种硒化铋/氮化镓紫外‑红外宽波段探测器及其制备方法,所述探测器包括GaN衬底、Bi2Se3层和金电极,GaN衬底上生长的Bi2Se3层,GaN与Bi2Se3之间形成Bi2Se3/GaN异质结,金电极设置在GaN衬底和Bi2Se3层上,具体制备方法如下:一、在蓝宝石衬底上利用CVD技术生长Bi2Se3层;二、利用磁控溅射技术在GaN衬底和Bi2Se3层表面沉积Au电极,得到Bi2Se3/GaN紫外‑红外宽波段探测器。本发明实现了200~4000nm超宽光谱的光电探测器,利用Bi2Se3/GaN异质结单一结构,实现宽光谱探测。与紫外、红外多个器件叠加实现紫外‑红外探测相比,器件结构简单,降低了系统的体积、功耗和成本。

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