公开(公告)号：CN109814330A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201811365845.5

申请日：2018-11-16

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张晓伦 ,  郭爵旗 ,  李宗彦 ,  傅中其 ,  陈立锐 ,  郑博中 ,  许哲彰

IPC: G03F1/40

Abstract: 本公开提供一种提供了掩模、掩模容器和掩模上累积的静电荷的放电方法。掩模包括遮罩基板、反射多层结构、覆盖层、吸收结构和导电材料结构。遮罩基板具有前侧表面和后侧表面。反射多层结构位于遮罩基板的前侧表面上方。覆盖层位于反射多层结构上方。吸收结构位于覆盖层上方。导电材料结构位于遮罩基板的侧壁表面和吸收结构的侧壁表面上方。

公开(公告)号：CN110967940A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910927816.1

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 黄昱智 ,  杨基 ,  许哲彰 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 揭露了一种用于极紫外(EUV)辐射源的数据匹配模块控制反馈系统的方法。方法包括获得狭缝整合能量(SLIE)感测器数据及绕射光学元件(DOE)数据。方法通过数据匹配模块执行SLIE感测器数据及DOE数据的时间差的数据匹配，以识别SLIE感测器数据及DOE数据的不匹配集合。方法亦决定不匹配集合的SLIE感测器数据及DOE数据的时间差是否在可接受的范围内。基于此决定，方法自动地验证不匹配集合的可配置数据，使得不匹配集合的SLIE感测器数据对反射率计算有效。

公开(公告)号：CN110967937A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910924598.6

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈思妤 ,  许哲彰 ,  杨基 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置。本揭露的一实施方式提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的源，此辐射源包括围绕低气压环境的腔室。进气口经配置以在腔室中提供清洗气体。将多个排气口提供至腔室，每个排气口具有对应闸阀，闸阀包括对应于将腔室与EUV扫描器分隔的排气口的扫描器闸阀。压力感测器设置在腔室内部并邻近于扫描器闸阀。控制器经配置以基于压力感测器的输出来控制除扫描器闸阀之外的闸阀。如此一来，用于产生极紫外(EUV)辐射的源将可具有较长的寿命。

公开(公告)号：CN115524932A

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN202210260035.3

申请日：2022-03-16

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 许哲彰 ,  余昇刚 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  刘恒信

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种半导体制造系统及在其制造系统中产生极紫外辐射的方法，在一种在半导体制造系统中产生极紫外(EUV)辐射的方法中，气体的一个或多个流被引导通过安装在EUV辐射源的收集器镜的边缘上方的一个或多个气体出口，以在收集器镜的表面上方产生气体的流动。气体的一个或多个流的一个或多个流速被调整以减少沉积在收集器镜的表面上的金属碎屑的量。

公开(公告)号：CN112305870A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010709935.2

申请日：2020-07-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈思妤 ,  郑博中 ,  陈立锐 ,  许哲彰 ,  杨基

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种极紫外光刻系统包括叶片料斗模块。叶片料斗模块包括收集箱及温度调节包。收集箱具有封盖且封盖包括多个通孔。封盖的边缘的厚度大于封盖的中心的厚度。温度调节包环绕收集箱。温度调节包包括与通孔对准的多个进口。

公开(公告)号：CN109524286A

公开(公告)日：2019-03-26

申请号：CN201710854745.8

申请日：2017-09-20

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 李宗彦 ,  卢玟铵 ,  郭爵旗 ,  许哲彰 ,  周佳信 ,  傅中其 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/32

Abstract: 本公开实施例提供一种半导体晶圆加工方法、系统及系统的清洁方法。上述半导体晶圆加工系统的清洁方法包括在一真空腔室中，将一清洁装置放置于一掩模静电座上方。通过上述掩模静电座将上述清洁装置的一聚合物材料层吸附于上述掩模静电座。当上述清洁装置吸附于上述掩模静电座且经过一第一时间时，将上述清洁装置与上述掩模静电座分离。

公开(公告)号：CN119620554A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202411561069.1

申请日：2024-11-04

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张凯傑 ,  许哲彰 ,  何开发 ,  陈立锐

IPC: G03F7/20

Abstract: 本揭露提供一种最佳化微影扫描器装置的扫描速度的系统及方法和增大微影装置产量的方法。最佳化微影扫描器的扫描速度的方法包括：接收对应于待形成于一关联晶圆上的多个场列的一工艺设计布局，且判定该微影扫描器的一预设机器常数。该多个场列中的每一者接着识别为对应于该所接收工艺设计布局。接着判定针对列的每一判定类型的一扫描速度及该判定的预设机器常数。该关联晶圆接着根据该工艺设计布局将该判定的扫描速度用于该些列中的每一者来处理。

公开(公告)号：CN112305871A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010709965.3

申请日：2020-07-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 许哲彰 ,  郑介任 ,  陈立锐 ,  简上杰 ,  张晁祯 ,  陈思妤

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种照明器包括：第一琢面镜面，接收且反射曝光辐射；可调整屏蔽元件，安置于第一琢面镜面上，可调整屏蔽元件调整由第一琢面镜面反射的曝光辐射的强度均一性；以及第二琢面镜面，接收且反射由第一琢面镜面反射的曝光辐射。

公开(公告)号：CN109799684A

公开(公告)日：2019-05-24

申请号：CN201811365850.6

申请日：2018-11-16

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 郭爵旗 ,  李宗彦 ,  周佳信 ,  傅中其 ,  陈立锐 ,  郑博中 ,  许哲彰

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种倍缩掩模固持工具，包括外壳，外壳包括上外壳构件以及侧向外壳构件。侧向外壳构件从上外壳构件延伸，且在一下边缘终止。倍缩掩模固持工具还包括定位于外壳中的倍缩掩模吸座，且倍缩掩模吸座配置以固定倍缩掩模。倍缩掩模固持工具亦包括气体输送总成。气体输送总成是定位于外壳内，且配置以供应气体至外壳内。

公开(公告)号：CN110967940B

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN201910927816.1

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 黄昱智 ,  杨基 ,  许哲彰 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 揭露了一种用于极紫外(EUV)辐射源的数据匹配模块控制反馈系统的方法。方法包括获得狭缝整合能量(SLIE)感测器数据及绕射光学元件(DOE)数据。方法通过数据匹配模块执行SLIE感测器数据及DOE数据的时间差的数据匹配，以识别SLIE感测器数据及DOE数据的不匹配集合。方法亦决定不匹配集合的SLIE感测器数据及DOE数据的时间差是否在可接受的范围内。基于此决定，方法自动地验证不匹配集合的可配置数据，使得不匹配集合的SLIE感测器数据对反射率计算有效。