公开(公告)号：CN110310901A

公开(公告)日：2019-10-08

申请号：CN201810723869.7

申请日：2018-07-04

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 李宗霖 ,  林艺民 ,  叶致宏 ,  王子元

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明实施例公开清洁工艺腔室的方法。一种清洁工艺腔室的方法包括以下步骤。在所述工艺腔室的内部表面上交替地形成多个工艺膜及多个非工艺膜。执行清洁操作，以从所述工艺腔室的所述内部表面除去所述多个工艺膜及所述多个非工艺膜。

公开(公告)号：CN110310901B

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN201810723869.7

申请日：2018-07-04

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 李宗霖 ,  林艺民 ,  叶致宏 ,  王子元

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明实施例公开清洁工艺腔室的方法。一种清洁工艺腔室的方法包括以下步骤。在所述工艺腔室的内部表面上交替地形成多个工艺膜及多个非工艺膜。执行清洁操作，以从所述工艺腔室的所述内部表面除去所述多个工艺膜及所述多个非工艺膜。