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发明公开
用于清洁半导体设备的装置无效

公开(公告)号：CN110834011A

公开(公告)日：2020-02-25

申请号：CN201910738720.0

申请日：2019-08-12

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 刘世国 , 张家熏 , 蒯光国 , 伟康·谢 , 洪铭泉

IPC: B08B5/02 , B08B3/02 , B08B1/00 , B08B1/04 , B08B13/00

Abstract: 本发明实施例涉及一种用于清洁半导体设备的装置，其包含：第一支撑构件，其耦合至罩壳，且经构造以透过所述罩壳沿第一轴线移动及围绕所述第一轴线旋转；第二支撑构件，其耦合至所述第一支撑构件，且经构造以沿垂直于所述第一轴线的第二轴线移动；及臂，其可枢转地耦合至所述第二支撑构件，且经构造以围绕垂直于所述第一轴线及所述第二轴线的第三轴线旋转。所述装置还包含清洁头，其附接至所述臂，且经构造以围绕所述臂的纵轴线旋转。

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