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发明公开
反射型罩幕及其制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN115390357A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202210010786.X

申请日：2022-01-06

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 谢玮哲 , 吕啟纶 , 林秉勳 , 朱福盛 , 连大成 , 李信昌

IPC: G03F1/52 , G03F1/54

Abstract: 一种反射型罩幕及其制造方法，反射型罩幕包括基板、设置于基板上方的下反射多层、设置于下反射多层上方的中间层、设置于中间层上方的上反射多层、设置于上反射多层上方的覆盖层、及设置于形成于上反射层中且在中间层上方的沟槽中的吸收层。中间层包括除了铬、钌、硅、硅化合物及碳以外的金属。

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