公开(公告)号：CN112445062B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202010908400.8

申请日：2020-09-02

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈庆煌 ,  孙啟元 ,  林华泰 ,  李信昌 ,  陈明威

IPC: G03F1/54 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20

Abstract: 一种反射性光罩及其制造方法，反射性光罩包括基板、设置在基板上的反射性多层、设置在反射性多层上的覆盖层、设置在覆盖层上的光催化层，及设置在光催化层上且携载具有开口的电路图案的吸收层。光催化层的部分在吸收层的开口处被曝光，且光催化层包括选自由氧化钛(TiO2)、氧化锡(SnO)、氧化锌(ZnO)及硫化镉(CdS)组成的群组的一者。

公开(公告)号：CN112445062A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010908400.8

申请日：2020-09-02

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈庆煌 ,  孙啟元 ,  林华泰 ,  李信昌 ,  陈明威

IPC: G03F1/54 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20

Abstract: 一种反射性光罩及其制造方法，反射性光罩包括基板、设置在基板上的反射性多层、设置在反射性多层上的覆盖层、设置在覆盖层上的光催化层，及设置在光催化层上且携载具有开口的电路图案的吸收层。光催化层的部分在吸收层的开口处被曝光，且光催化层包括选自由氧化钛(TiO2)、氧化锡(SnO)、氧化锌(ZnO)及硫化镉(CdS)组成的群组的一者。