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公开(公告)号：CN105900012A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201480071349.2
申请日：2014-12-26
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，更详细地，涉及一种提高对显影液的隆起可靠性的同时，适用于使用少量的曝光能量也能够进行曝光的激光直接曝光机，进而在整体生产速度被曝光工艺的速度所左右的企业、PCB、导线架、PDP及其它显示单元等中形成图案时，能够使生产率极大化的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物。
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公开(公告)号：CN102549500A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080043364.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0752
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105705998B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201480044108.9
申请日：2014-08-07
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明是关于包含在干膜抗蚀剂中的光敏树脂组合物，更具体地，本发明的光敏树脂组合物能够在维持优异的细线密着性与分辨率的同时，具有剥离速度快、对镀金液的优异耐性等特性，因而能够在印刷电路板制造时提高质量和生产率。
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公开(公告)号：CN105705998A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201480044108.9
申请日：2014-08-07
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明是关于包含在干膜抗蚀剂中的光敏树脂组合物，更具体地，本发明的光敏树脂组合物能够在维持优异的细线密着性与分辨率的同时，具有剥离速度快、对镀金液的优异耐性等特性，因而能够在印刷电路板制造时提高质量和生产率。
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公开(公告)号：CN103176362A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201210568156.0
申请日：2012-12-24
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种包含在干膜抗蚀剂（光阻）中的感光树脂组合物，具体而言，具有对显影液的耐性而提高了细线密着性及分辨率，并且将感光树脂组合物进行光固化而形成的固化膜的剥离特性优异，而且，使用激光直接曝光机时能够用少量的曝光能量就能进行曝光，对于曝光工艺的速度影响整个生产速度的生产商或对于在PCB、引线框、PDP及其它显示器件上生成影像的作业，能够极大地提高生产效率。
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公开(公告)号：CN102549500B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201080043364.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0752
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。
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