公开(公告)号：CN102549500A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080043364.8

申请日：2010-09-28

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 石想勋 ,  文熙岏 ,  奉东勋 ,  李炳逸 ,  韩国贤 ,  赵承济 ,  崔钟昱

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/0752

Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。

公开(公告)号：CN102549500B

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201080043364.8

申请日：2010-09-28

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 石想勋 ,  文熙岏 ,  奉东勋 ,  李炳逸 ,  韩国贤 ,  赵承济 ,  崔钟昱

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/0752

Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。