-
公开(公告)号：CN102549500B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201080043364.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0752
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。
-
公开(公告)号：CN102549500A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080043364.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0752
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。
-
公开(公告)号：CN102549499A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080043646.8
申请日：2010-09-29
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/092 , G03F7/027 , G03F7/0752 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。另外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。尤其是，本发明的树脂保护层可减少多晶硅等润湿剂(wetting agent)的含量，从而节省成本，降低雾霾(haze)，而且，因适当粘接基膜和树脂保护层，以在去除基膜时不会损伤树脂保护层，从而防止雾霾的降低，不产生显像时间的降低，实现高分辨率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105705998B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201480044108.9
申请日：2014-08-07
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明是关于包含在干膜抗蚀剂中的光敏树脂组合物，更具体地，本发明的光敏树脂组合物能够在维持优异的细线密着性与分辨率的同时，具有剥离速度快、对镀金液的优异耐性等特性，因而能够在印刷电路板制造时提高质量和生产率。
-
公开(公告)号：CN105705998A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201480044108.9
申请日：2014-08-07
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明是关于包含在干膜抗蚀剂中的光敏树脂组合物，更具体地，本发明的光敏树脂组合物能够在维持优异的细线密着性与分辨率的同时，具有剥离速度快、对镀金液的优异耐性等特性，因而能够在印刷电路板制造时提高质量和生产率。
-
公开(公告)号：CN115053182A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202080079865.5
申请日：2020-12-28
Applicant: 可隆工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/028 , C08F220/30 , C08F220/04 , C08F220/18 , C08F212/00 , H05K3/06 , G03F7/033 , G03F7/09 , C08F220/28
Abstract: 本公开涉及一种光敏树脂组合物和使用该光敏树脂组合物的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示器件，所述光敏树脂组合物包含碱可显影粘合剂树脂，该碱可显影粘合剂树脂包含由化学式1表示的重复单元、由化学式2表示的重复单元、由化学式3表示的重复单元以及由化学式4表示的重复单元。
-
公开(公告)号：CN114787711A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202080082461.1
申请日：2020-12-28
Applicant: 可隆工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/028 , G03F7/09 , C08F265/06 , C08F220/28 , C08F220/36 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F212/08
Abstract: 本公开涉及一种光敏树脂组合物，以及使用该光敏树脂组合物的干膜光致抗蚀剂、光敏元件、电路板和显示装置，所述光敏树脂组合物包含碱可显影粘合剂树脂，该碱可显影粘合剂树脂包含由化学式1表示的重复单元、由化学式2表示的重复单元、由化学式3表示的重复单元和由化学式4表示的重复单元。
-
公开(公告)号：CN102549499B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201080043646.8
申请日：2010-09-29
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/092 , G03F7/027 , G03F7/0752 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。另外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。尤其是，本发明的树脂保护层可减少聚硅氧烷等润湿剂的含量，从而节省成本，降低雾度，而且，因适当粘接基膜和树脂保护层，以在去除基膜时不会损伤树脂保护层，从而防止雾度的降低，不产生显像时间的降低，实现高分辨率。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.019 seconds)
