光敏元件、干膜光致抗蚀剂、抗蚀剂图案、电路板和使用其的显示装置

    公开(公告)号:CN116547320A

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202180079342.5

    申请日:2021-12-02

    Inventor: 金耸炫

    Abstract: 本公开涉及一种光敏元件、干膜光致抗蚀剂、抗蚀剂图案、电路板和使用其的显示装置,所述光敏元件包括:聚合物基板;和形成在所述聚合物基板上的光敏树脂层,其中,钯镀层的厚度为0.01μm以上,所述钯镀层通过将其中在基板上层压有所述光敏树脂层的膜样品浸渍在钯镀液中60分钟,然后将覆铜层压板样品浸渍在残留钯镀液中5分钟而得到。

Patent Agency Ranking