公开(公告)号：CN114902133A

公开(公告)日：2022-08-12

申请号：CN202080088795.X

申请日：2020-12-11

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 张铉硕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/09 ,  C08F265/06 ,  C08F220/28 ,  C08F220/36 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F212/08

Abstract: 本发明涉及一种光敏树脂组合物和使用该光敏树脂组合物的干膜光刻胶和光敏元件，所述光敏树脂组合物包含单官能的光聚合性化合物和三官能以上的多官能光聚合性化合物，并且具有优异的基底粘合性。

公开(公告)号：CN105900012A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201480071349.2

申请日：2014-12-26

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 石想勋 ,  崔钟昱 ,  张铉硕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，更详细地，涉及一种提高对显影液的隆起可靠性的同时，适用于使用少量的曝光能量也能够进行曝光的激光直接曝光机，进而在整体生产速度被曝光工艺的速度所左右的企业、PCB、导线架、PDP及其它显示单元等中形成图案时，能够使生产率极大化的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物。