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公开(公告)号：CN107646087A
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201680029734.X
申请日：2016-05-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G01B9/02039 , B21D11/10 , C03B37/15 , G01B9/02028 , G01B9/02032 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01B2290/30 , G01M11/005 , G01M11/0264 , G02B5/08 , G02B13/143 , G03F7/702 , G03F7/706
Abstract: 本发明涉及干涉式地确定被测装置(14)的表面(12)的形状的测量布置(10)。所述测量布置(10)包括提供输入波(18)的光源(16)和衍射光学元件(24)。衍射光学元件(24)适当地设计为从输入波(18)通过衍射分别产生测试波(26)和参考波(28)，该测试波指向被测装置(14)并且具有至少部分适配于光学表面(12)的期望的形状的波前。所述测量布置(10)还包含用于参考波(28)的背向反射的反射光学元件(30)、以及在捕获平面(48)中捕获干涉图的捕获装置(36)，该干涉图由与被测装置(14)相互作用后的测试波(26)和反射的参考波(28)分别在所述衍射光学元件(24)处的另一次衍射之后的叠加产生。本发明还涉及确定被测装置(14)的表面形状的相应方法。
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公开(公告)号：CN104685317B
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201380051045.5
申请日：2013-09-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： J.赫茨勒
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02028 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01M11/005 , G01M11/0271 , G02B5/1871 , G02B5/32 , Y10T29/49771
Abstract: 提供了一种衍射光学元件(50)，具有基板(52)和布置在其上的衍射结构图案(54)。所述衍射结构图案构造为将辐射至其上的平面或球面输入波(42)转换为：1)至少四个分离的输出波，其中，所述输出波中的至少一个是非球面波，所述输出波中的至少另外一个是球面波(58；70)，所述输出波中的至少另外两个分别是平面波(60)或球面波(72，74)；2)至少三个分离波，其中的至少一个是非球面波，另外两个是球面或平面波；3)至少三个球面波。衍射光学元件用在干涉测量方法和装置中，用于确定光学元件的光学表面的实际形状与预期形状的偏离。光学元件制造成具有光学表面，用上述方法和装置测量的光学表面与预期形状的偏离位于预定水平之下。
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公开(公告)号：CN114502914A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080068030.X
申请日：2020-08-13
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 本发明涉及一种用于测量光学表面(102)的形状的测试干涉仪(100)的衍射光学元件(10)，其包括：衍射形状测量结构(16)，其布置在衍射光学元件的使用表面(14)上并且被配置为当衍射光学元件布置在测试干涉仪中时生成用于照射待测量的光学表面的测试波(122)；以及至少一个测试场(18)，被配置为用于测量定位在测试场内的测试结构的多个轮廓性质，轮廓性质表征相对于使用表面横向延伸的测试结构的轮廓并且包括测试结构的轮廓的侧翼角、测试结构的轮廓深度、和在测试结构的沟槽形状的轮廓的基部区域中出现的微沟槽的深度。测试场布置在使用表面的一个位置处而不是衍射形状测量结构，使得测试场由多个衍射形状测量结构围绕。
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公开(公告)号：CN103154819A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180046883.4
申请日：2011-09-22
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70675 , G01B9/02015 , G01B11/14 , G01B2290/65 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/70683 , G03F7/70733 , G03F7/7085 , G03F9/7003 , G03F9/7049
Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)，用于将提供图像的基板(20)的掩模结构(22)成像在待结构化的基板(30)上，该投射曝光设备包括测量装置(40)，该测量装置构造为确定布置在一个基板(20；30)的表面上的测量结构(32)在关于基板表面的至少一个横向方向上相对于彼此的相对位置，以及因此同时测量多个测量结构(32)，该多个测量结构布置为关于彼此横向偏移。
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公开(公告)号：CN109716056B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201780054763.6
申请日：2017-07-19
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： J.赫茨勒
IPC: G01B9/02
Abstract: 干涉确定测试件(14)的光学表面(12)的形状的测量装置(10)包括：产生照明波(34)的照明模块(16)，干涉仪(18)，该干涉仪(18)配置为将照明波分裂成参考波(52)和被指引到光学表面上的测试波(50)，两束波关于彼此倾斜使得当将它们叠加在干涉仪的检测平面(62)中时产生多个条纹干涉图案(66)。照明模块具有在检测平面的傅里叶平面中布置的光瞳平面(28)，并且照明模块配置为产生照明波使得光瞳平面中的照明波的强度分布包括一个或多个空间上隔离、连续的表面区域(38)，该表面区域(38)配置为使得具有与表面区域或表面区域的总体配合的最小可能面积的矩形(74)具有至少1.5∶1的纵横比。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107816939B
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201711103826.0
申请日：2013-09-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： J.赫茨勒
Abstract: 提供了一种衍射光学元件(50)，具有基板(52)和布置在其上的衍射结构图案(54)。所述衍射结构图案构造为将辐射至其上的平面或球面输入波(42)转换为：1)至少四个分离的输出波，其中，所述输出波中的至少一个是非球面波，所述输出波中的至少另外一个是球面波(58；70)，所述输出波中的至少另外两个分别是平面波(60)或球面波(72，74)；2)至少三个分离波，其中的至少一个是非球面波，另外两个是球面或平面波；3)至少三个球面波。衍射光学元件用在干涉测量方法和装置中，用于确定光学元件的光学表面的实际形状与预期形状的偏离。光学元件制造成具有光学表面，用上述方法和装置测量的光学表面与预期形状的偏离位于预定水平之下。
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公开(公告)号：CN109716056A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780054763.6
申请日：2017-07-19
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： J.赫茨勒
IPC: G01B9/02
Abstract: 干涉确定测试件(14)的光学表面(12)的形状的测量装置(10)包括：产生照明波(34)的照明模块(16)，干涉仪(18)，该干涉仪(18)配置为将照明波分裂成参考波(52)和被指引到光学表面上的测试波(50)，两束波关于彼此倾斜使得当将它们叠加在干涉仪的检测平面(62)中时产生多个条纹干涉图案(66)。照明模块具有在检测平面的傅里叶平面中布置的光瞳平面(28)，并且照明模块配置为产生照明波使得光瞳平面中的照明波的强度分布包括一个或多个空间上隔离、连续的表面区域(38)，该表面区域(38)配置为使得具有与表面区域或表面区域的总体配合的最小可能面积的矩形(74)具有至少1.5∶1的纵横比。
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公开(公告)号：CN103140805B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201180046828.5
申请日：2011-09-22
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
Abstract: 一种用于曝光基板(20)的微光刻投射曝光设备(10)，包括：投射物镜(18)；及光学测量装置(40)，其用于在曝光基板(20)前，确定基板(20)的表面形貌。测量装置(40)具有在投射物镜(18)的外面延伸的测量光束路径，并构造为波前测量装置，该波前测量装置构造为在基板表面(21)上的多个点处同时确定形貌测量值。
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公开(公告)号：CN115380195A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202180028436.X
申请日：2021-02-12
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： J.赫茨勒
IPC: G01B11/24 , G01B9/02015 , G01M11/00 , G02B7/182
Abstract: 本发明涉及用于测试物(14‑1；14‑2)的表面(12)的干涉形状测量的测量设备(10)，该测量设备包括：衍射式光学元件(26‑1；26‑2)，用于从已经辐射进入的测量辐射(18)产生测试波(28)，该测试波被配置为辐射到测试物的表面上；偏转元件(22)，在测量辐射的束路径中衍射式光学元件的上游，以及用于保持偏转元件的保持装置(24，124)，该保持装置被配置为通过倾斜运动和平移运动的组合来改变偏转元件(22)的位置。
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公开(公告)号：CN113424104A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN201980091828.3
申请日：2019-12-21
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 本发明涉及一种用于表征测试物体的表面形状的设备和方法。根据本发明的用于表征测试物体的表面形状的设备具有：测试布置(130，230)，用于使用测试波来确定测试物体(111，112，113，211，212，213)的表面形状，其中，该测试波具有由衍射光学元件处的衍射产生的波前；第一真空室(110，210)；以及第二真空室(120，220)，其中，第二真空室(120，220)具有用于存放至少两个衍射光学元件(121，122，123，221，222，223)的供应室。
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