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发明公开
光学设备、用于测量光学元件的光学表面的实际倾斜的方法和光刻系统审中-公开

公开(公告)号：CN118946850A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202380030164.6

申请日：2023-03-22

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： H·兹维克 , T·哈特 , M·希伦布兰德 , S·里克特 , R·阿梅林 , F·哈克

IPC分类号： G03F7/00 , G02B26/08

摘要： 本发明涉及一种光学设备(1)，特别是用于光刻系统(100、200)，包括：具有至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2)；具有用于倾斜光学元件(2)的光学表面(3)的一个或多个致动器(4)；以及具有用于感测光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5)。根据本发明，测量装置(5)包括形成闭合测量部分(7)的至少一个波导(6)，其中波导(6)被设计为输入耦合并传播测量光束(8)的一种或多种模式，并且其中波导(6)被布置为使得光学表面(3)的倾斜影响传播通过波导(6)的测量光束(8)，其中测量装置(5)被设计为感测由光学表面(3)的倾斜引起的对测量光束(8)的影响。