公开(公告)号：CN118946850A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202380030164.6

申请日：2023-03-22

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： H·兹维克 ,  T·哈特 ,  M·希伦布兰德 ,  S·里克特 ,  R·阿梅林 ,  F·哈克

IPC: G03F7/00 ,  G02B26/08

Abstract: 本发明涉及一种光学设备(1)，特别是用于光刻系统(100、200)，包括：具有至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2)；具有用于倾斜光学元件(2)的光学表面(3)的一个或多个致动器(4)；以及具有用于感测光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5)。根据本发明，测量装置(5)包括形成闭合测量部分(7)的至少一个波导(6)，其中波导(6)被设计为输入耦合并传播测量光束(8)的一种或多种模式，并且其中波导(6)被布置为使得光学表面(3)的倾斜影响传播通过波导(6)的测量光束(8)，其中测量装置(5)被设计为感测由光学表面(3)的倾斜引起的对测量光束(8)的影响。

公开(公告)号：CN118103739A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202280068756.2

申请日：2022-10-06

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： R·阿梅林 ,  F·哈克 ,  M·霍尔兹 ,  J·艾森曼格

IPC: G02B5/08 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明揭露一种含有多反射镜单元(MU)的EUV多反射镜布置(MMA)，这些反射镜单元以取网格布置而逐一布置在载体结构(TS)上，其中每个反射镜单元具有底座组件(BE)及单独可倾斜的反射镜元件(ME)，该反射镜元件与该底座组件(BE)相对并且具有反射镜基板(SUB)，该反射镜基板在背对该底座组件的正面上带有反射涂层(REF)，用于形成反射EUV辐射的反射镜面(MS)。在每个反射镜单元(MU)中，在该底座组件(BE)与该反射镜元件(ME)之间布置：悬架系统(SUS)的多个组件，其用于将该反射镜元件(ME)可移动式安装在该底座组件(BE)上；致动器系统(AKS)的多个致动器，其用于使该反射镜元件(ME)相对于该底座组件(BE)运动，作为对接收控制信号的反应；及传感器系统(SENS)的多个传感器，其用于捕获这些反射镜元件(ME)的位置。该致动器系统(AKS)具有多个压电致动器(AKT)。该传感器系统(SENS)具有多个电容式传感器(KPS)。