一种超晶格空间GaInP/InGaAs/Ge电池外延片的制造方法

    公开(公告)号:CN109560166A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811416792.5

    申请日:2019-01-16

    CPC classification number: H01L31/18 H01L31/035236 H01L31/0687

    Abstract: 本发明公开了一种超晶格空间GaInP/InGaAs/Ge电池外延片的制造方法,目前,GaInP/InGaAs/Ge三结电池中Ge材料禁带宽度较小,吸收的光谱范围较宽,导致其电流密度远大于InGaAs中电池和GaInP顶电池层,造成了太阳光的利用率的损失,本发明公开了一种超晶格空间GaInP/InGaAs/Ge电池外延片的制造方法,它是分别在中电池和顶电池的基区中引入超晶格结构,即:本发明通过在中电池的p-GaInAs基区层和顶电池的p-GaInP基区层之中分别引入GaAsP/GaInAs和GaInP/AlGaInP超晶格,因而能改善电池中的电流匹配,提高电池的的抗辐照性能,同时使少数光生载流子收集效率提升,减少光生载流子的辐射复合,从而提高了空间GaInP/InGaAs/Ge电池外延片的光电转化效率,使电池性能进一步提升。

    一种RTA退火炉校温方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109637949A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201811345657.6

    申请日:2018-11-13

    CPC classification number: H01L21/67115 H01L33/0095

    Abstract: 本发明公开了一种RTA退火炉校温方法,该方法利用衬底制作成校温陪片,利用金属和衬底在特定温度下才能形成良好欧姆接触的特性来定义退火的临界温度,在临界温度基础上可以得到安全的目标工艺温度,该方法还可以监控腔体在临界温度的温场分布。本发明一种RTA退火炉校温方法具有便捷、经济、可靠的优点,不需要专门购买昂贵的校温用TCWafer装置,同时解决了传统TC Wafer装置对背面有金属材料的样品无法有效反馈温场分布的弊端。

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