具有金属氧化物/二氧化硅叠栅的GaN基MOS-HEMT器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN109004029B

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN201810783099.5

    申请日:2018-07-17

    Abstract: 本发明公开了具有金属氧化物/二氧化硅叠栅的GaN基MOS‐HEMT器件及其制备方法;该器件包括AlGaN/GaN异质结外延层、第一栅介质层、第二栅介质层、栅电极和源漏电极;第一栅介质层为覆盖在AlGaN/GaN异质结外延层上的SiO2薄膜,第一栅介质层的厚度为5‐15nm;第二栅介质层为覆盖在第一栅介质层上的金属氧化物薄膜,第二栅介质层的厚度为5‐15nm;本发明采用金属氧化物/SiO2的叠层介质结构,减小了磁控溅射沉积高介电常数氧化物介质对外延的损伤,使其适用于GaN基HEMT器件的制备;同时弥补了SiO2介电常数低的缺陷,使器件整体栅极控制能力提高且有效降低了栅极漏电。

    具有反射镜结构的微米尺寸正装LED器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN117317097A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311124327.5

    申请日:2023-09-01

    Abstract: 本发明公开了具有反射镜结构的微米尺寸正装LED器件及其制备方法。所述器件基于GaN基外延层制备而成,从下到上依次设置有衬底、N型GaN层、多量子阱层、P型GaN层,在P型GaN层上表面沉积p电极。在刻蚀暴露出的N型GaN层表面,填充有曲面状的封装胶,曲面的内壁上沉积有金属反射层,封装胶与金属反射层构成反射镜结构;并在金属反射层和台面侧壁之间沉积有钝化层。本发明通过金属反射镜能够降低相邻Micro‑LED芯片相互之间的光学串扰,利用金属反射镜与绝缘介质层构成侧壁场板,耗尽P型GaN层边缘的载流子,降低器件边缘的空穴浓度。从而减弱器件边缘部分的SRH复合,提高器件的外量子效率(EQE)。

    一种微尺寸LED正装阵列芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN117116962A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202311115998.5

    申请日:2023-08-31

    Abstract: 本发明公开一种微尺寸LED正装阵列芯片及其制备方法。所述正装阵列芯片采用共阴极,阳极单独控制的方式。每个发光单元由GaN基外延层制备而成,从下到上依次设置有衬底、n‑GaN层、绝缘介质层、p电极,绝缘介质层设置有多量子阱层、p‑GaN层。本发明采用选区生长的方式避免了干法刻蚀芯片导致的表面损伤。利用阳极电极与绝缘介质层构成侧壁场板,耗尽p‑GaN层边缘的载流子,降低器件边缘的空穴浓度。从而减弱器件边缘部分的非辐射复合,提高器件的空穴注入效率和外量子效率(EQE)。各个发光单元通过绝缘介质层和阳极电极相互隔离,可防止串扰,提高显示效果。

    具有金属氧化物/二氧化硅叠栅的GaN基MOS-HEMT器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN109004029A

    公开(公告)日:2018-12-14

    申请号:CN201810783099.5

    申请日:2018-07-17

    Abstract: 本发明公开了具有金属氧化物/二氧化硅叠栅的GaN基MOS‐HEMT器件及其制备方法;该器件包括AlGaN/GaN异质结外延层、第一栅介质层、第二栅介质层、栅电极和源漏电极;第一栅介质层为覆盖在AlGaN/GaN异质结外延层上的SiO2薄膜,第一栅介质层的厚度为5‐15nm;第二栅介质层为覆盖在第一栅介质层上的金属氧化物薄膜,第二栅介质层的厚度为5‐15nm;本发明采用金属氧化物/SiO2的叠层介质结构,减小了磁控溅射沉积高介电常数氧化物介质对外延的损伤,使其适用于GaN基HEMT器件的制备;同时弥补了SiO2介电常数低的缺陷,使器件整体栅极控制能力提高且有效降低了栅极漏电。

    一种空间电荷限制电流计算方法、装置及存储介质

    公开(公告)号:CN114692070B

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202210254709.9

    申请日:2022-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种空间电荷限制电流计算方法、装置及存储介质,其中方法包括:S1、确定阴极金属板和阳极介质板两板之间的结构模型;S2、将两个电流密度值分别作为泊松轨迹过程的输入,计算单位时间注入的电荷量,以及在计算电子轨迹过程中计算电荷量并沉积到网格上;S3、获得电势分布,根据电场定义通过外推过程进行多项式拟合求解各点的电场;S4、使用割线法得到更新的电流密度,根据电流密度获取下一次泊松轨迹过程的输入电流密度;S5、输出最终的电流密度分布。本发明给出了非平行平板结构的空间电荷限制电流计算方案,在计算电子轨迹过程中迭代求解电子运动轨迹,探究了空间电荷影响下粒子的运动规律,可广泛应用于电子器件领域。

    一种非对称超级电容器及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118315202A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410383321.8

    申请日:2024-04-01

    Abstract: 本发明公开了一种非对称超级电容器及其制备方法和应用。本发明的非对称超级电容器的组成包括正极、电解质溶液和负极,正极的组成包括导电碳纤维布、原位生长在导电碳纤维布表面的CuCo2O4纳米片和原位生长在CuCo2O4纳米片表面的δ‑MnO2纳米线,负极为负载有活性炭、聚偏二氟乙烯和乙炔黑的导电碳纤维布。本发明的非对称超级电容器具有能量密度和功率密度高、电位窗口大、循环稳定性好等优点,且其结构简单、制备方法简单、生产成本低,适合进行大规模工业化应用。

    一种摩擦纳米发电机及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116345946A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202310364682.3

    申请日:2023-04-06

    Abstract: 本发明公开了一种摩擦纳米发电机及其制备方法和应用。本发明的摩擦纳米发电机的组成包括第一摩擦单元、第二摩擦单元和柔性支撑骨架,第一摩擦单元的组成包括层叠贴合的第一电极层和第一摩擦层,第二摩擦单元的组成包括层叠贴合的第二电极层和第二摩擦层,第一电极层和第二电极层均固定在柔性支撑骨架上,第一摩擦层和第二摩擦层面对面设置,且两者不直接接触,第一摩擦层为多孔醋酸纤维素膜,第二摩擦层为聚偏二氟乙烯膜。本发明的摩擦纳米发电机具有质量轻、柔韧性好、稳定性高等优点,且其制备方法简单、生产成本低、设备要求低,适合进行大规模生产应用。

    一种摩擦纳米发电机及其制备方法

    公开(公告)号:CN113114064B

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202110284828.4

    申请日:2021-03-17

    Abstract: 本发明公开了一种摩擦纳米发电机及其制备方法。本发明的摩擦纳米发电机的组成包括第一芳纶纤维层、第一银纳米线层、第二芳纶纤维层和第二银纳米线层;所述第一芳纶纤维层与第一银纳米线层贴合;所述第一银纳米线层和第二芳纶纤维层之间设置有间隙;所述第二芳纶纤维层与第二银纳米线层贴合。本发明的摩擦纳米发电机的制备方法包括以下步骤:1)制备芳纶纤维纸;2)制备芳纶纤维‑银纳米线复合纸;3)将2张芳纶纤维‑银纳米线复合纸组装成摩擦纳米发电机。本发明的摩擦纳米发电机具有质量轻、柔韧性好、耐高温性好、耐老化性好、稳定性高等特点,且制造成本低、制备工艺简单,适合进行大规模工业化生产。

    一种基于布洛赫表面波的电子加速系统及方法

    公开(公告)号:CN114666966A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210188354.8

    申请日:2022-02-28

    Abstract: 本发明公开了一种基于布洛赫表面波的电子加速系统及方法,其中系统包括:玻璃衬底;光子晶体,淀积于玻璃衬底上,为由两种介电常数不同的的介质材料周期交替构成的多层膜结构;飞秒激光脉冲模块,用于产生飞秒激光脉冲,所述飞秒激光脉冲经过所述玻璃衬底,以预设的入射角射入所述光子晶体的第一表面,并从所述光子晶体的第二表面射出,以在所述第二表面处形成布洛赫表面波作用区域;电子注入装置,用于将电子注入所述布洛赫表面波作用区域,实现对电子进行加速。本发明采用布洛赫表面波对电子进行加速,由于飞秒激光激发的布洛赫表面波具有强的局域增强效应,加速电子可以在该强局域场中获得较高的能量。本发明可广泛应用于电子器件领域。

    基于高斯近似的可见光通信信道的极化编码方法和系统

    公开(公告)号:CN109889266A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201910088926.3

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于高斯近似的可见光通信信道的极化编码方法,包括:S2,根据初始化设置的信噪比求出信道的初始似然值,利用高斯逼近量化算法求出每个子信道的对数似然比 根据每个子信道的对数似然比 得到N个子信道的巴氏参数Z(W),N为设定的极化码的码长;S3,将N个子信道的巴氏参数进行排序,根据码率从排序后的巴氏参数选择出信息位集合和冻结位集合;从而分析出各个子信道的好坏;巴氏参数越小,代表信道的信道容量越大,这样就可以挑选出更优的信道。S4,将信息位集合结合生成矩阵GN;S5,根据生成的矩阵GN将待传输的源信息 线性映射为编码序列完成可见光通信信道下极化码的编码。

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