一种柔性光学传感器的制作方法

    公开(公告)号:CN1295567C

    公开(公告)日:2007-01-17

    申请号:CN200410061274.8

    申请日:2004-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种柔性光学传感器的制作方法,步骤为:①光刻成形;②热熔;③离子刻蚀;④淀积保护层;⑤在正面淀积一层Cr或Al金属,光刻、刻蚀出金属图形,接着,在金属层上旋转涂覆聚酰亚胺,再进行固化;⑥在背面深刻蚀硅,直至硅底减薄至60-80μm,形成硅岛结构,最后再涂覆聚酰亚胺,并固化,即得到所需的柔性光学传感器。本发明的关键在于采用曲面微透镜技术制作柔性光学传感器。这种技术所制作的微传感器兼具柔性和强度,且与硅工艺相兼容。本发明制作的光学传感器能同时测量目标距离和方位角、并具有自动绕行或跨越障碍物的能力,在智能微型探测系统、智能机器人视觉系统等方面有广泛的应用空间。

    一种微型二氧化钒光开关及其制备方法

    公开(公告)号:CN1529451A

    公开(公告)日:2004-09-15

    申请号:CN200310111202.5

    申请日:2003-10-05

    Abstract: 本发明公开了一种微型二氧化钒光开关,包括衬底、VO2层和电极,衬底和VO2层之间设有Si3N4材料制成的过渡层,在VO2层上设有金属加热线。制备方法包括:(1)清洗衬底表面;(2)镀制薄膜:采用溅射淀积设备先镀过渡层Si3N4,再开始长VO2膜;(3)退火处理;(4)利用悬浮工艺制作金属加热线和电极:先作出光刻胶光开关微图形,再在基片上镀金属薄膜,最后去除光刻胶上的薄膜层。本发明无移动部件,膜系本身就是加热器,不必另装加热设备,结构简单、工作可靠,便于大规模集成,低成本、低功耗,同时,由于该光开关可以采用标准半导体制造工艺制作,而且具有开关时间短,对偏振不灵敏,消光比高,插入损耗小的特点,是一种全新的开关器件,可以在光通讯和光传感领域中得到很大的发展。

    一种柔性光学传感器的制作方法

    公开(公告)号:CN1632697A

    公开(公告)日:2005-06-29

    申请号:CN200410061274.8

    申请日:2004-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种柔性光学传感器的制作方法,步骤为:①光刻成形;②热熔;③离子刻蚀;④淀积保护层;⑤在正面淀积一层Cr或Al金属,光刻、刻蚀出金属图形,接着,在金属层上旋转涂覆聚酰亚胺,再进行固化;⑥在背面深刻蚀硅,直至硅底减薄至60-80μm,形成硅岛结构,最后再涂覆聚酰亚胺,并固化,即得到所需的柔性光学传感器。本发明的关键在于采用曲面微透镜技术制作柔性光学传感器。这种技术所制作的微传感器兼具柔性和强度,且与硅工艺相兼容。本发明制作的光学传感器能同时测量目标距离和方位角、并具有自动绕行或跨越障碍物的能力,在智能微型探测系统、智能机器人视觉系统等方面有广泛的应用空间。

    一种微型二氧化钒光开关

    公开(公告)号:CN2681163Y

    公开(公告)日:2005-02-23

    申请号:CN200320115572.1

    申请日:2003-10-22

    Abstract: 本实用新型公开了一种微型二氧化钒光开关,包括衬底、VO2层和电极,衬底和VO2层之间设有Si3N4材料制成的过渡层,在VO2层上设有金属加热线。本实用新型无移动部件,膜系本身就是加热器,不必另装加热设备,结构简单、工作可靠,便于大规模集成,低成本、低功耗,同时,由于该光开关可以采用标准半导体制造工艺制作,而且具有开关时间短,对偏振不灵敏,消光比高,插入损耗小的特点,是一种全新的开关器件,可以在光通讯和光传感领域中得到很大的发展。

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