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公开(公告)号:CN106409935B
公开(公告)日:2017-10-24
申请号:CN201610908370.4
申请日:2016-10-19
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/032 , H01L31/0725 , H01L31/18
CPC分类号: Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要: 本发明公开了一种MoO3/MoS2/LiF柔性异质结太阳能电池及其制备方法。包括聚酰亚胺(PI)柔性衬底、Al背极、MoO3空穴传输层、MoS2电子空穴激发层、LiF电子传输层、石墨烯透明导电层、Al栅极。所述MoO3层采用溶液法低温制备,便于大面积批量生产;MoS2采用CVD法原位硫化形成,同时对MoO3层进行退火,可以减少MoO3空穴传输层与MoS2层之间的界面缺陷,减少了界面污染;热辐射蒸发LiF层,较薄的空穴传输层和电子传输层厚度,一方面减少了串联电阻,另一方面实现了与MoS2、石墨烯等二维层状材料形成良好柔性异质结太阳能电池。MoO3/MoS2/LiF柔性异质结太阳能电池具有低温制备、工艺简单、成本低廉、光电转换效率高、应用范围广等优势。
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公开(公告)号:CN105244414A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201510678656.3
申请日:2015-10-20
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/074
CPC分类号: Y02E10/50 , Y02P70/521 , H01L31/18 , H01L31/074
摘要: 本发明公开了一种二硫化钼/硅异质结太阳能电池及其制备方法,化学气相沉积(CVD)方法可制得大面积、均匀、高结晶的二硫化钼膜,该材料具有较高的载流子迁移率且带隙可调控,制备的二硫化钼/硅异质结太阳电池具有常温制备、工艺简单、成本低、光电转换效率高等特点,在降低器件成本的同时,能够实现太阳能的有效转换。
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公开(公告)号:CN107403847B
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201710569811.7
申请日:2017-07-13
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/0224 , H01L31/09 , H01L31/18 , H01L21/02
CPC分类号: Y02P70/521
摘要: 本发明公开了一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备工艺,光探测器包括从上之下依次排列的电极结构、多个层状二硫化钼薄膜以及衬底;电极结构为电极、主支、分支三部分,相邻主支之间和相邻分支之间的间距为二硫化钼薄膜的平均大小,起到并联二硫化钼薄膜、增大光敏面积的作用。二硫化钼薄膜的生长采用化学气相沉积(CVD)的方法,硅片作为衬底,MoO3粉末作为钼源,硫粉作为硫源,通过控制钼源与衬底之间的间距、硫蒸气进入反应的时间和反应温度,制备得到大面积的层状二硫化钼薄膜。使用该方法制备层状二硫化钼薄膜,对设备要求低,实验过程简单方便、重复性高。
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公开(公告)号:CN105161576B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201510677976.7
申请日:2015-10-20
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/18
CPC分类号: Y02P70/521
摘要: 本发明公开了一种基于二硫化钼的肖特基太阳电池的制备方法,利用金属钯与二硫化钼形成肖特基异质结,在石英衬底上制备薄膜太阳能电池。纳米层状二硫化钼薄膜的制备采用化学气相沉积法实现,金属钯薄膜采用磁控溅射法实现,钯薄膜作为背电极,金属钛/金叠层薄膜通过热蒸发方法在二硫化钼薄膜上沉积作为上电极。这种基于二硫化钼的肖特基异质结太阳能电池光电转换效率高,制备方法简单易行,成本低,具有广泛应用前景。
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公开(公告)号:CN107523811B
公开(公告)日:2019-08-09
申请号:CN201710679857.4
申请日:2017-08-10
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C18/14
摘要: 本发明公开了一种二维过渡金属硫族化合物薄膜及其制备方法,其中制备方法包括:将A和B混合后加入C溶液得到前驱体溶液,A为五氯化钼或者四氯化钨,B为硫脲或者硒脲,C为异丙醇、乙醇或者甲醇,将前驱体溶液涂抹在带氧化层的硅片上;用激光器照射置于硅片表面的前驱体,激光器输出功率为20W~200W,照射时间0.02s~2s,照射在真空环境或惰性气氛环境下进行,得到二维过渡金属硫族化合物薄膜。本发明采用的激光制备二维过渡金属硫族化合物薄膜,其工艺流程简单,可以在短时间内获得高质量的二维过渡金属硫族化合物薄膜,适合大批量生产。
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公开(公告)号:CN105870253B
公开(公告)日:2018-02-27
申请号:CN201610258405.4
申请日:2016-04-25
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/074
CPC分类号: Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要: 本发明公开了一种制备二硫化钨/ 硅(WS2 / Si)异质结太阳能电池的方法,主要工艺是:对p型单晶硅片清洗、制绒后置于PECVD系统中制备出本征非晶硅薄膜层;经WO3的硫化制备出WS2 薄膜层;在其反面热蒸发金属铝背电极,正面采用电子束蒸发制备出钯薄膜构成上电极,得到异质结太阳能电池。该化学气相沉积方法可制备出面积大、分布均匀、高结晶性的纳米WS2薄膜材料,有很好的载流子迁移率和带隙可调控优点,且实验方法简单、工艺可控、易操作、成本较低、光电转换效率高,能够实现太阳能的有效转换。
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公开(公告)号:CN107768432A
公开(公告)日:2018-03-06
申请号:CN201710791037.4
申请日:2017-09-05
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L29/24 , H01L29/786 , H01L21/34 , B82Y30/00
CPC分类号: H01L29/78696 , B82Y30/00 , H01L29/24 , H01L29/66969
摘要: 本发明公开了一种二维二硫化钼底栅型TFT器件结构及其制备方法;TFT器件结构包括:从下往上依次设置的p/n型单晶硅、SiO2层、MoS2薄膜层和Ti/Ni/Au源漏电极;p/n型单晶硅厚度为(200~500)微米;SiO2层的厚度为(50~300)nm;MoS2薄膜层的厚度为(0.7~2.1)nm;Ti/Ni/Au源漏电极厚度为:Ti为(5~15)nm,Ni为(5~15)nm,Au为(50~70)nm。源、漏电极材料为Ti/Ni/Au复合金属,使用电子束蒸发工艺制备而成,此电极材料与二维二硫化钼功函数接近,接触电阻小。本发明结构简单、性能稳定,而且载流子迁移率高、开关比大。
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公开(公告)号:CN106409935A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201610908370.4
申请日:2016-10-19
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/032 , H01L31/0725 , H01L31/18
CPC分类号: Y02E10/50 , Y02P70/521 , H01L31/0725 , H01L31/032 , H01L31/1864
摘要: 本发明公开了一种MoO3/MoS2/LiF柔性异质结太阳能电池及其制备方法。包括聚酰亚胺(PI)柔性衬底、Al背极、MoO3空穴传输层、MoS2电子空穴激发层、LiF电子传输层、石墨烯透明导电层、Al栅极。所述MoO3层采用溶液法低温制备,便于大面积批量生产;MoS2采用CVD法原位硫化形成,同时对MoO3层进行退火,可以减少MoO3空穴传输层与MoS2层之间的界面缺陷,减少了界面污染;热辐射蒸发LiF层,较薄的空穴传输层和电子传输层厚度,一方面减少了串联电阻,另一方面实现了与MoS2、石墨烯等二维层状材料形成良好柔性异质结太阳能电池。MoO3/MoS2/LiF柔性异质结太阳能电池具有低温制备、工艺简单、成本低廉、光电转换效率高、应用范围广等优势。
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公开(公告)号:CN106531834B
公开(公告)日:2018-01-30
申请号:CN201611090552.1
申请日:2016-11-30
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L31/074 , H01L31/0352 , H01L31/18
CPC分类号: Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要: 本发明公开了一种HIT(Heterojunction with Intrinsic Thin‑layer)太阳能电池及其制备方法,该电池的组成包括N型单晶硅衬底(N‑c‑Si)、本征氢化非晶硅层(a‑Si:H)、低氢气稀释比(RH)的P型微晶硅层、高RH的P型微晶硅层、ITO(indium tin oxide)透明导电薄膜、正面栅线电极、DBRs(Distributed Bragg reflectors)、背电极。DBRs是由三层重掺杂N型非晶硅薄膜和氮化硅薄膜构成。本发明优化了HIT太阳能电池窗口层和背反射层的结构,能够大大提升电池对近红外光的吸收,降低串联电阻,提升开路电压和短路电流,进而提升太阳能电池效率。
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公开(公告)号:CN107523811A
公开(公告)日:2017-12-29
申请号:CN201710679857.4
申请日:2017-08-10
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C18/14
CPC分类号: C23C18/14
摘要: 本发明公开了一种二维过渡金属硫族化合物薄膜及其制备方法,其中制备方法包括:将A和B混合后加入C溶液得到前驱体溶液,A为五氯化钼或者四氯化钨,B为硫脲或者硒脲,C为异丙醇、乙醇或者甲醇,将前驱体溶液涂抹在带氧化层的硅片上;用激光器照射置于硅片表面的前驱体,激光器输出功率为20W~200W,照射时间0.02s~2s,照射在真空环境或惰性气氛环境下进行,得到二维过渡金属硫族化合物薄膜。本发明采用的激光制备二维过渡金属硫族化合物薄膜,其工艺流程简单,可以在短时间内获得高质量的二维过渡金属硫族化合物薄膜,适合大批量生产。
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