一种铅玻璃通孔微通道板、其制作方法与用途

    公开(公告)号:CN117263520A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311096069.4

    申请日:2023-08-29

    Abstract: 本发明涉及一种铅玻璃通孔微通道板、其制作方法与用途,方法包括1)将铅玻璃原料混合、研磨、冲压、成型、切割、磨抛,得到铅玻璃薄片材料;2)将所述铅玻璃薄片材料,进行激光诱导局域改性、化学选择性腐蚀,得到具有铅玻璃通孔阵列结构的基底材料;3)将所述基底材料,通过氢还原处理或原子层沉积,制作电阻性二次电子发射层,得到铅玻璃通孔微通道板。本发明的通道孔径和孔间距可调、倍增成像鉴别率高、电子增益可调、探测量子效率高、暗电流噪声低、动态范围大,能广泛应用在微光像增强器、光电倍增管、质谱仪、光子计数器和辐射探测等领域。本发明制作方法操作简便、环境友好,工艺条件温和、能耗低,成本低廉、产量大,有利于推广应用。

    具有近红外增强功效的多维层叠光子晶体结构的制备方法

    公开(公告)号:CN114994807A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210539417.X

    申请日:2022-05-17

    Abstract: 本发明公开了一种制备具有近红外增强功效的多维层叠光子晶体结构的方法,在硅衬底表面涂布光刻胶作为掩模层,光刻,并在掩膜层表面留下以一定间隔周期排列的圆柱型孔洞;在硅衬底及掩膜层上外延氧化硅薄膜,去除所述掩膜层及外延在掩膜层表面的氧化硅薄膜,在以一定间隔周期排列的圆柱型孔洞中留下圆柱型氧化硅结构;接着外延氧化铝阻挡层,再在阻挡层上外延氧化钛增透层并平坦化外延层表面,沉积氧化铪薄膜、匀胶光刻、刻蚀并退火形成圆锥型结构,至此获得圆柱型与圆锥型多层叠光子晶体结构。本发明的异型异质微纳结构的制备,形成多维层叠结构的光子晶体,通过改变所制备的光子晶体的材料、周期、占空比,提高了光子晶体在近红外的光谱响应。

    一种应用于多碱光电阴极的复合光学薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN110783157B

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN201911020021.9

    申请日:2019-10-24

    Abstract: 本发明公开了一种应用于多碱光电阴极的复合光学薄膜及其制备方法。所述复合光学薄膜由增透膜与亲和膜共同组成,所述增透膜的材料是TiO2薄膜,亲和膜的材料是HfO2薄膜。本发明的制备方法首先在硼硅玻璃窗基底上制作复合光学薄膜;然后以具有复合光学薄膜的硼硅玻璃窗衬底制作多碱光电阴极,并将其封装成多碱光电阴极具有复合光学薄膜二极管;最后,测试该二极管的阴极灵敏度及光谱响应曲线,满足要求则完成制备。本发明的复合光学薄膜及其制备方法可达到光学上的增透效果,增加入射光子经玻璃窗透射进入多碱光电阴极的概率,从而使得更多的入射光子被多碱光电阴极吸收,由此提高多碱光电阴极对入射光子的光电转换效率。

    一种测量超二代像增强器阴极近贴聚焦距离的方法

    公开(公告)号:CN109374265B

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201811271331.3

    申请日:2018-10-29

    Abstract: 本发明属于微光像增强器技术领域,涉及一种测量超二代像增强器阴极近贴聚焦距离的方法,采用900nm~1000nm波长范围,优选的,采用950nm~1000nm波长范围的近红外单色光来测量像增强器的阴极近贴聚焦距离。首先调节物镜与阴极玻璃窗之间的距离,将物镜聚焦在光电阴极膜层上,测出聚焦位置A;然后将物镜聚焦在微通道板输入端,测出聚焦位置B;则像增强器的阴极近贴聚焦距离为位置B与位置A之间的差,即阴极近贴聚焦距离Δz=B‑A。使用本发明方法可有效精确地测量出超二代像增强器的阴极近贴聚焦距离,从而确定出不能进行冲击测试的像增强器,避免像增强器被击穿的风险,避免造成不必要的经济损失。

    具有近红外增强功效的多维层叠光子晶体结构的制备方法

    公开(公告)号:CN114994807B

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202210539417.X

    申请日:2022-05-17

    Abstract: 本发明公开了一种制备具有近红外增强功效的多维层叠光子晶体结构的方法,在硅衬底表面涂布光刻胶作为掩模层,光刻,并在掩膜层表面留下以一定间隔周期排列的圆柱型孔洞;在硅衬底及掩膜层上外延氧化硅薄膜,去除所述掩膜层及外延在掩膜层表面的氧化硅薄膜,在以一定间隔周期排列的圆柱型孔洞中留下圆柱型氧化硅结构;接着外延氧化铝阻挡层,再在阻挡层上外延氧化钛增透层并平坦化外延层表面,沉积氧化铪薄膜、匀胶光刻、刻蚀并退火形成圆锥型结构,至此获得圆柱型与圆锥型多层叠光子晶体结构。本发明的异型异质微纳结构的制备,形成多维层叠结构的光子晶体,通过改变所制备的光子晶体的材料、周期、占空比,提高了光子晶体在近红外的光谱响应。

    一种硼硅玻璃的键合方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114920469A

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN202210618131.0

    申请日:2022-06-01

    Abstract: 本发明提供了一种硼硅玻璃的键合方法,该键合方法包括如下步骤:(1)将磨抛后表面光滑的硼硅玻璃基片分别使用纯水、乙醇清洗去除污物(2)在piranha溶液中超声清洗后再次使用纯水和乙醇清洗,并用氮气枪将其吹干(3)在键合面滴加氨水活化液,将其贴合后在湿度70%‑90%环境放置2h,之后将其分开,再次滴加氨水活化液后重新贴合待用。(4)将贴合静置后的基片放入真空烘干箱,先在100℃保温1h,然后在200℃继续保温4h。(5)随炉自然冷却到室温,键合完成。该键合方法无需在高洁净环境中进行,对设备和环境要求较低,成本低廉,方便操作。

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