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公开(公告)号：CN115903122A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202310018538.4
申请日：2023-01-06
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于增强现实显示的光栅波导装置及波导系统，所述光栅波导装置包括基板和至少一个光栅区域；所述光栅区域设置于所述基板；每一个光栅区域的光栅矢量表达为同一个虚拟二维光栅的n个光栅矢量的整数倍的叠加，其中，n为不小于2的整数。光栅波导装置采用这种设计，实现光栅波导方案显示图像保持较高的清晰度。
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公开(公告)号：CN114966930A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210920041.7
申请日：2022-08-02
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种全息光栅制作装置，包括：用于发射激光的激光器；用于调整光强的光强调整部件；用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件包括第一透过率调整部件和第二透过率调整部件，第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像；用于移动第一透过率调整部件的第一移动部件，与第一透过率调整部件连接；用于移动第二透过率调整部件的第二移动部件，与第二透过率调整部件连接；以及基板。本发明可以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。
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公开(公告)号：CN111552030A
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN202010567714.6
申请日：2020-06-19
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种波导光学装置，包括波导本体，在所述波导本体的第一区域设置有第一光学元件，所述第一光学元件使得光耦合入所述波导本体内并使光在所述波导本体内在至少两个维度扩展，在所述波导本体的第二区域设置有将所述波导本体内传播的光向所述波导本体外耦合出的第二光学元件。本波导光学装置在波导本体第一区域的第一光学元件能够将光耦合入波导本体内，并能够使光在波导本体内在至少两个维度扩展，使得光在波导本体内通过不同的维度传播而到达第二区域，能够使在第二区域相同面积内耦合出光束增多，进而有助于提升输出图像的均匀性。本发明还公开一种显示设备。
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公开(公告)号：CN118191987A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410468446.0
申请日：2024-04-18
Applicant: 北京至格科技有限公司
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供一种全息正弦光栅的制备方法，包括：在基板上旋涂设定厚度的光刻胶，得到设置光刻胶掩膜的基板；对所述基板上的光刻胶掩膜进行光束干涉曝光操作，使得光刻胶掩膜处于未完全曝光状态，在基板上得到性质发生改变的光刻胶掩膜；对所述基板上性质发生改变的光刻胶掩膜进行显影操作，在基板上形成具有正弦分布形态的光刻胶光栅掩模，得到具有光刻胶光栅掩膜的基板；对所述具有光刻胶光栅掩膜的基板进行刻蚀，得到全息正弦光栅。正弦光栅制备工艺简单，且制备得到的正弦光栅面型易于控制，面型指标能够快速满足设定需求。
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公开(公告)号：CN114911058B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202210530752.3
申请日：2022-05-16
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种利用衍射光波导实现单片全彩的方法、衍射光波导及设备；其中，实现单片全彩的方法包括，构建包括多个光栅的衍射光波导的光通路；使用光栅的高级次衍射，通过k空间分析，使多个所述光栅为不同波长的入射光提供的总光栅矢量为0，满足全反射条件；确定出满足总光栅矢量为0的每种波长的入射光的衍射级次；根据每种波长的入射光的衍射级次确定出光栅周期；所述衍射光波导内不同波长的入射光具有相近的衍射角。本发明解决了由于色散作用造成的视场角较小、颜色均匀性较差等问题，并抑制部分鬼像问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116931148A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202311187802.3
申请日：2023-09-15
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种光栅掩膜及光栅的制备方法，光栅掩膜的制备方法包括：根据曝光操作中曝光光场的能量分布确定基板不同区域的匀胶胶厚；基于确定的所述基板不同区域的匀胶胶厚，在基板上分次旋涂光刻胶，使得基板不同区域具有对应的所述匀胶胶厚，得到设置光刻胶掩膜的基板；将设置光刻胶掩膜的基板进行所述曝光操作，在基板上得到性质改变的光刻胶掩膜；对基板上性质改变的光刻胶掩膜进行显影操作，在基板上得到光栅掩膜。通过本发明的光栅掩膜制备方法能够得到形貌一致的光栅掩膜。
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公开(公告)号：CN116430496B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310674013.6
申请日：2023-06-08
Applicant: 北京至格科技有限公司
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供一种曝光光路复现、光栅复现方法，曝光光路复现方法包括如下步骤：获取参考光栅，参考光栅采用第一曝光光路曝光；利用所述参考光栅搭建第二曝光光路，使得第二曝光光路复现所述第一曝光光路。由于在制作不同光栅周期的光栅时，需要基于光栅周期搭建特定的曝光光路，所以本发明的方法可以复现特定光栅周期的特定曝光光路，进而通过特定光栅周期的曝光光路复现特定光栅周期的光栅。
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公开(公告)号：CN116389705A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310377980.6
申请日：2023-04-10
Applicant: 北京至格科技有限公司 , 清华大学
IPC: H04N13/363 , H04N13/106
Abstract: 本发明提供一种用于增强现实的三维场景实现方法及系统，所述方法包括：在设定时间周期内，利用照明系统将组成图像帧的深度层二值图像按照设定时序投射给显示系统；显示系统按照所述设定时间周期变换所述图像帧；显示系统依次接收深度层二值图像进行处理，得到对应深度层图像投影到图像传输系统；图像传输系统接收对应深度层图像后，将对应深度层图像传输到人眼前方，使得对应深度层图像与真实场景叠加；并且利用调焦系统将传输到人眼前方的对应深度层图像投影到空间中的特定深度。上述方法能够满足在AR显示设备中使用层析光场显示法实现三维场景展示，解决现有AR显示设备三维场景显示方法具有的辐辏调节冲突。
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公开(公告)号：CN116165864A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202310449369.X
申请日：2023-04-25
Applicant: 北京至格科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明提供一种用于增强现实的二值层析三维场景实现方法及系统，方法包括：图像处理系统将三维场景进行深度分隔，得到组成三维场景的深度分隔图像，图像处理系统将深度分隔图像按照全息图算法进行处理，得到与深度分隔图像对应的二值全息图，图像处理系统将二值全息图发送给图像显示系统并控制图像显示系统加载二值全息图，从而在特定空间深度生成二值全息图的衍射像，然后图像传输耦合系统接收二值全息图的衍射像，将二值全息图的衍射像传输到人眼前方，使得二值全息图的衍射像与真实场景叠加。上述二值层析三维场景实现方法，解决了AR设备三维场景展示具有的辐辏调节冲突问题，能够实现在AR设备中使用层析光场显示法进行三维场景展示。
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公开(公告)号：CN118859393A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410996103.1
申请日：2024-07-24
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种凸面闪耀光栅以及凸面闪耀光栅制备工艺，其中，凸面闪耀光栅制备工艺包括：在凸面基板上设置光刻胶光栅掩膜，得到设置光刻胶光栅掩膜的凸面基板。对设置光刻胶光栅掩膜的凸面基板进行第一离子束刻蚀，得到设置同质光栅掩膜的凸面基板。对设置同质光栅掩膜的凸面基板进行第二离子束刻蚀，且在对设置同质光栅掩膜的凸面基板进行第二离子束刻蚀过程中，通过控制凸面基板旋转使得凸面基板不同位置的离子束入射角等于凸面闪耀光栅的目标闪耀角，得到凸面闪耀光栅。本发明的凸面闪耀光栅制备工艺能够改善现有凸面基板在不同位置处刻蚀得到的闪耀光栅的闪耀角大小不一致的问题，提高凸面闪耀光栅闪耀角大小的均匀性。
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