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公开(公告)号：CN119493211A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411971033.0
申请日：2024-12-30
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种双目波导光栅及其制备工艺，其中，双目波导光栅制备工艺包括：首先，在波导基板上制备向人的左目耦出成像的第一耦出光栅，然后，基于第一耦出光栅在波导基板上制备耦入光栅，进而，基于耦入光栅在波导基板上制备向人的右目耦出成像的第二耦出光栅。通过上述双目波导光栅制备工艺制备得到的双目波导光栅能够实现波导向用户左目成像的光路传输路径中耦入光栅的光栅矢量和耦出光栅的光栅矢量形成闭合回路且波导向用户右目成像的光路传输路径中耦入光栅的光栅矢量和耦出光栅的光栅矢量形成闭合回路，从而保证波导显示成像相较光机的投射图像是无失真无畸变的。
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公开(公告)号：CN115236780B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202210982363.4
申请日：2022-08-16
Applicant: 北京至格科技有限公司
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供一种光栅的调整方法及系统，所述方法包括：在曝光显影之后，获取光栅的占宽比；若所述光栅的占宽比不满足制作要求，则对所述光刻胶掩膜进行微观调整，直到所述光栅的占宽比满足制作要求。所述系统用于执行上述方法。本发明实施例提供的光栅的调整方法及系统，在光栅的制作过程中，无需严格控制曝光量以及显影液的显影稳定性，降低了光栅制作的工艺复杂性和生产成本，提高了光栅的占宽比的精确性。
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公开(公告)号：CN116389705A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310377980.6
申请日：2023-04-10
Applicant: 北京至格科技有限公司 , 清华大学
IPC: H04N13/363 , H04N13/106
Abstract: 本发明提供一种用于增强现实的三维场景实现方法及系统，所述方法包括：在设定时间周期内，利用照明系统将组成图像帧的深度层二值图像按照设定时序投射给显示系统；显示系统按照所述设定时间周期变换所述图像帧；显示系统依次接收深度层二值图像进行处理，得到对应深度层图像投影到图像传输系统；图像传输系统接收对应深度层图像后，将对应深度层图像传输到人眼前方，使得对应深度层图像与真实场景叠加；并且利用调焦系统将传输到人眼前方的对应深度层图像投影到空间中的特定深度。上述方法能够满足在AR显示设备中使用层析光场显示法实现三维场景展示，解决现有AR显示设备三维场景显示方法具有的辐辏调节冲突。
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公开(公告)号：CN116165864A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202310449369.X
申请日：2023-04-25
Applicant: 北京至格科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明提供一种用于增强现实的二值层析三维场景实现方法及系统，方法包括：图像处理系统将三维场景进行深度分隔，得到组成三维场景的深度分隔图像，图像处理系统将深度分隔图像按照全息图算法进行处理，得到与深度分隔图像对应的二值全息图，图像处理系统将二值全息图发送给图像显示系统并控制图像显示系统加载二值全息图，从而在特定空间深度生成二值全息图的衍射像，然后图像传输耦合系统接收二值全息图的衍射像，将二值全息图的衍射像传输到人眼前方，使得二值全息图的衍射像与真实场景叠加。上述二值层析三维场景实现方法，解决了AR设备三维场景展示具有的辐辏调节冲突问题，能够实现在AR设备中使用层析光场显示法进行三维场景展示。
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公开(公告)号：CN115494571B
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211426075.7
申请日：2022-11-15
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本申请属于增强现实技术领域，具体涉及一种表面浮雕光栅衍射光波导的母版制作方法、光波导和设备，其中的方法包括：在基板表面形成正性光刻胶层，得到具有均匀光刻胶掩膜的基板；该具有均匀光刻胶掩膜的基板上设有目标结构区域，使用光刻掩膜板遮挡目标结构区域，对具有均匀光刻胶掩膜的基板进行接触曝光和显影处理，得到目标结构区域有光刻胶掩膜的基板；对目标结构区域有光刻胶掩膜的基板进行干涉曝光显影，得到目标结构区域有光栅掩膜的基板；对目标结构区域有光栅掩膜的基板进行刻蚀，得到目标结构区域有光栅结构的基板。该方法解决了刻蚀过程中使用挡板导致的光栅结构缺失和光栅结构边缘槽深偏浅、刻蚀面积缩小的问题，提高了光栅加工精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117491686B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311841197.7
申请日：2023-12-29
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种待测样品微观结构测量定位方法以及系统，方法包括：处理单元接收置于支撑件上的待测样品的真实扫描信息；处理单元将待测样品的真实扫描信息与待测样品记录信息进行对比分析，生成待测样品所需拟合图像信息；处理单元基于待测样品所需拟合图像信息以及待测样品记录信息，生成原子力显微镜能够识别的待测样品测量定位文件。当实际待测样品存在缺陷或者规格不满足要求，且待测样品的待测位置信息为具体点位信息时，提高待测样品所需测量位置的定位精度，降低测试时长，提高测试效率。
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公开(公告)号：CN117516413A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311638746.0
申请日：2023-12-01
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种基板面型测量方法以及系统，基板面型测量方法：首先，采用夹具组件夹持基板，在夹具组件夹持基板过程中，实时测量并显示基板的应力值；其次，调整夹具组件与激光干涉仪的相对位置，使得夹具组件与激光干涉仪的位置关系满足激光干涉仪对基板面型的测量需求；再者，基于显示的应力值，通过改变夹具组件对基板的夹持力调整基板产生的应力；然后，采用激光干涉仪对调整应力的基板测量基板面型，输出基板面型数据。本发明的基板面型测量方法，在夹具组件夹持基板过程中将基板产生的应力进行调整释放，避免因基板应力引发的基板形变而影响激光干涉仪对基板面型测量数据的准确性，提高激光干涉仪对基板面型测量数据的精准度。
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公开(公告)号：CN116067628A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202310195340.3
申请日：2023-02-24
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种入射空间角度测量方法及系统，方法包括：光学图像投影设备向光学图像传导设备投射第一图像，光学图像传导设备接收第一图像，并输出第二图像，第一光学图像采集设备采集第二图像，并将所述第二图像发送给光学图像处理设备，光学图像处理设备对第二图像进行处理，得到光学图像投影设备的入射空间角度。相较于现有方式，本发明可提高测量结果准确性，提高测量效率，且测量方法在作业现场即可测量，操作便捷。
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公开(公告)号：CN115793118A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211577213.1
申请日：2022-12-05
Applicant: 北京至格科技有限公司
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种用于加工变化槽深光栅的挡板装置和光栅刻蚀加工设备，属于光学元件加工技术领域，为了解决现有技术中衍射光栅光导成像不均匀的问题，所述用于加工变化槽深光栅的挡板装置包括左右设置的左挡板机构(1)和右挡板机构(2)，左挡板机构(1)含有左挡板(11)，右挡板机构(2)含有右挡板(21)，左挡板(11)和右挡板(21)之间能够形成纵向通孔(3)，纵向通孔(3)的大小、形状和位置均能够改变。从而可以加工出光学设计计算出来的光栅槽深度和深度分布，有效的改善了衍射光栅光导成像均匀性。
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公开(公告)号：CN115494571A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211426075.7
申请日：2022-11-15
Applicant: 北京至格科技有限公司
Abstract: 本申请属于增强现实技术领域，具体涉及一种表面浮雕光栅衍射光波导的母版制作方法、光波导和设备，其中的方法包括：在基板表面形成正性光刻胶层，得到具有均匀光刻胶掩膜的基板；该具有均匀光刻胶掩膜的基板上设有目标结构区域，使用光刻掩膜板遮挡目标结构区域，对具有均匀光刻胶掩膜的基板进行接触曝光和显影处理，得到目标结构区域有光刻胶掩膜的基板；对目标结构区域有光刻胶掩膜的基板进行干涉曝光显影，得到目标结构区域有光栅掩膜的基板；对目标结构区域有光栅掩膜的基板进行刻蚀，得到目标结构区域有光栅结构的基板。该方法解决了刻蚀过程中使用挡板导致的光栅结构缺失和光栅结构边缘槽深偏浅、刻蚀面积缩小的问题，提高了光栅加工精度。
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