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公开(公告)号：CN201425674Y
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200920107091.3
申请日：2009-05-26
Applicant: 北京清大天达光电科技有限公司 , 清华大学
IPC: G02F1/13
Abstract: 一种液晶显示屏标记识别及对位系统，该系统包括基座、X方向运动平台、Y方向运动平台和绕Z轴旋转的θ方向旋转平台以及CCD识别系统；所述的CCD识别系统包括CCD支架、第一CCD、第二CCD、Z方向CCD调节装置、X方向CCD调节装置和胶片电路吸盘。本实用新型减少了传统液晶显示屏贴片系统中用单CCD对各个标记分别进行识别时的移动时间，大大提高了贴片效率；本实用新型中还增加了CCD的调整装置，可以对双CCD位置进行调节以增大应用范围。
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公开(公告)号：CN116610211A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310409111.7
申请日：2023-04-17
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提供一种基于磁敏传感器的指态感知手套，包括：手套本体、微矩形强磁铁、信号处理器以及多个磁敏传感器；手套本体的手指区域包括五个手指套筒和五组分别分布于五个手指套筒的指背关节处的柔性电线板；微矩形强磁铁沿手指套的指头方向分布排列，用于产生磁场；磁敏传感器布置于各个手指套筒的指背关节处，并与对应的柔性电线板连接，用于检测微矩形强磁铁所产生的磁场；信号处理器与柔性电线板连接，用于获取磁敏传感器采集的磁场信号，并根据微矩形强磁铁的位置信息和磁场信号确定各个指关节在三维空间中的姿态信息。通过微矩形强磁铁与磁敏传感器的配合可以在自由移动的同时实现对手部姿态的高精度测量。
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公开(公告)号：CN106059418B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201610438862.1
申请日：2016-06-17
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
IPC: H02P21/00 , H02P25/064
Abstract: 一种永磁同步直线电机神经网络自适应轨迹跟踪控制方法，属于直线电机运动控制技术领域。该方法利用神经网络控制器的非线性映射能力建立永磁同步直线电机的模型估计与补偿环节，以实现电机良好的轨迹跟踪性能。所述控制方法中包括基于径向基函数(RBF)的神经网络控制器、带有反馈增益的鲁棒控制器两部分，分别用来进行模型估计补偿和抑制建模误差的影响；本发明利用了神经网络的非线性逼近特性，建立了永磁同步直线电机模型非线性补偿环节，有效克服了电机运行过程中死区、推力波动等非线性因素的影响，有较强抗干扰能力和良好的稳定性，可实现良好的轨迹跟踪性能。
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公开(公告)号：CN105319989B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201510802623.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明是一种永磁弹射掩模台弹射区电机出力最小轨迹规划方法。所述方法是基于一种永磁弹射掩模台往复扫描运动，根据其运动特征和是否存在永磁弹射力，把掩模台的运动区间划分为非弹射区和弹射区。需根据弹射区的运动需求和运动的对称性，以电机出力最小为优化目标，选择多项式结构作为弹射区的运动轨迹函数；掩模台出入弹射区的加速度、速度、位移等的限制作为约束条件，采用遗传算法求解多项式轨迹函数最优参数。本发明不仅适用于永磁弹射掩模台，对于拥有弹射结构的设备具有一定的适应性。
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公开(公告)号：CN105301917B
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201510802597.6
申请日：2015-11-19
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法，所述方法根据运动区间内是否存在永磁弹射力划分为非弹射区和弹射区，并分别规划两个区间的运动轨迹。所述非弹射区轨迹规划需算速度、位移的临界条件，并由当前状态与临界条件的关系计算关键时间变量和时间切换点，得到分段的加速度、速度、位移轨迹函数。所述弹射区轨迹规划则使用多项式轨迹结构，以掩模台出入弹射区的状态为约束条件，固定弹射运动时间，求多项式轨迹参数。本发明能在给定约束下，为永磁弹射掩模台的往复扫描运动提供加速度、速度和位移参考轨迹。本发明不仅适用于永磁弹射掩模台，对于执行往复扫描运动的设备具有一定的适用性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105045042B
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201510197948.5
申请日：2015-04-23
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
CPC classification number: G01B11/14 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01D5/38 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F9/7046
Abstract: 一种硅片台曝光区域六自由度位移测量方法，应用于硅片台曝光区域的六自由度位移测量。硅片台包含线圈阵列和运动台，运动台磁钢阵列的下方固定平面光栅，将读数头固定在线圈阵列的空隙中，读数头中心线和透镜的中心线重合；读数头的测量光束入射在平面光栅上形成测量区域，测量区域的中心和曝光区域的中心在同一竖直线上；将曝光区域覆盖的那部分运动台近似为刚体，当运动台运动或由于振动发生变形时，由读数头测量得到测量区域的六自由度位移解算得到曝光区域的六自由度位移。实现了硅片台运动过程中任意时刻曝光区域的六自由度位移测量，降低测量复杂性，提高测量精度，尤其在运动台柔性较大时仍能精确测量任意时刻曝光区域的六自由度位移。
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公开(公告)号：CN103759657B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201410031283.6
申请日：2014-01-23
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
IPC: G01B11/02
Abstract: 基于光学倍程法的二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统，包括双频激光器、光栅干涉仪、测量光栅、光电转换单元；光栅干涉仪包括偏振分光棱镜、参考光栅、折光元件；该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。双频激光器的激光入射至光栅干涉仪、测量光栅后输出两路光信号至光电转换单元。当干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时，系统可输出二个线性位移。该测量系统采用二次衍射原理实现光学倍程,提高了分辨率，能够实现亚纳米甚至更高分辨率及精度，且能够同时测量二个线性位移。该测量系统具有对环境不敏感、测量精度高、体积小、质量轻等优点，作为光刻机超精密工件台位移测量系统可提升工件台综合性能。
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公开(公告)号：CN103925330B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201410158421.7
申请日：2014-04-18
Applicant: 清华大学
IPC: F16F15/02
Abstract: 一种磁悬浮平面电机推力分配方法，所述磁悬浮平面电机垂向驱动单元为四个音圈电机，其共同作用完成绕X轴转动、绕Y轴转动和Z向平动实现垂向三自由度运动。本发明针对磁悬浮平面电机垂向四个音圈电机推力分配策略，避免制造装配等环节引起的实际模型与理论模型之间的差异，通过辨识求解方法求解正则特征向量，在磁悬浮平面电机垂向受力方程的基础上，以模态力之和等于零作为约束，利用得到的一组推力分配特解，使各垂向音圈电机的模态贡献相互抵消，从物理本质层面解决柔性振动问题。本发明为磁悬浮平面电机推力分配提供了一种准确、便捷的方法，同时也为磁悬浮平面电机的精确控制提供了必要的条件。
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公开(公告)号：CN105823422A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610115077.2
申请日：2016-03-01
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
IPC: G01B11/02
Abstract: 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统及方法，其包括双频激光器、光栅干涉仪、测量光栅、接收器和信号处理单元；光栅干涉仪包括侧向位移分光棱镜、偏振分光棱镜、1/4波片、反射镜和光纤耦合器；所述方法基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学‐拍频原理实现位移测量。双频激光器的激光入射至干涉仪、测量光栅后输出光信号至信号处理单元，当干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时，系统可输出二个线性位移；测量系统采用利特罗入射条件，测量目标具有很大的被动运动允差，并且能够同时测量二个线性位移，精度能达到纳米级甚至更高；具有光路短、体积小、结构紧凑、质量轻、对测量光栅要求低等优点，适用于二自由度高精度长行程位移测量。
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公开(公告)号：CN103684184B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201310594864.6
申请日：2013-11-21
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
IPC: H02P21/18
Abstract: 一种直线电机初始相位确定方法，该方法将具有三种不同电角度相位且每个相位下方向相反的六个电流依次通入到作为电机动子的线圈阵列中，使动子运动，利用传感器测量每种电流下动子加速度，通过一定算法计算电机初始相位值。本发明只需要电机动子进行短距运动，利用传感器所测加速度经简单运算即可求解出高精度的初始相位。本发明构思巧妙、操作方便，能在不增加硬件的前提下，依靠简单算法确定直线电机初始相位。
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