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公开(公告)号：CN118268150A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211737599.8
申请日：2022-12-31
Applicant: 北京大学 , 广东省新兴激光等离子体技术研究院
Abstract: 本发明公开了一种稳定超薄液体薄膜生成装置，包括主泵(1)、调节阀(2)、喷嘴(3)和储液池(4)，主泵(1)将储液池(4)中的液体抽出，通过供液管将液体输送至喷嘴(3)，由喷嘴(3)将液体喷出；喷嘴(3)具有两个，两个喷嘴(3)喷出的液体相互对撞，形成流动的液体薄膜，调节阀(2)具有两个，对应设置在不同喷嘴(3)的液路前端，用于调节喷嘴(3)的喷液流量。本发明公开的稳定超薄液体薄膜生成装置，形成液体薄膜的抖振幅度小、稳定度高。
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公开(公告)号：CN114057184B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202010763009.3
申请日：2020-07-31
Applicant: 北京大学
IPC: C01B32/162 , C01B32/168 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种自支撑碳纳米管薄膜和自支撑碳纳米管薄膜靶，其制备方法和密度调控方法，以及所相应采用的制备装置。本发明提供的装置和/或方法通过浮动催化化学气相沉积法制得微观均匀的低密度碳管薄膜，之后用高精度压膜机对其进行压缩、转移得到自支撑的指定密度的薄膜靶，实现了靶孔处的自支撑和大范围的指定密度调控，可用于激光打靶实验或应用。
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公开(公告)号：CN114485279B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202011157685.2
申请日：2020-10-26
Applicant: 北京大学
IPC: F41J5/02
Abstract: 本发明公开了一种用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，该系统包括物理屏蔽层(1)和气体屏蔽层(2)，还具有偏转磁场组件(3)、高反光率污染物收集镜(4)和高透光率防护膜(5)，通过物理屏蔽、气体屏蔽、磁场屏蔽步骤对重频激光打靶系统进行防护。本发明公开的用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，通过多种方式组合屏蔽实现了对重频激光打靶系统的保护，极大提高了重频激光打靶系统中光学元件的使用寿命。
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公开(公告)号：CN114908338B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN202110171463.4
申请日：2021-02-07
Applicant: 北京大学
IPC: C23C16/54 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/52 , C23C16/26 , C23C14/26 , C23C14/16 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种用于在超薄自支撑薄膜上沉积碳纳米管的化学气相沉积装置，主要包括前级加热区、中央反应区和沉积区，在中央反应区和沉积区之间设置冷却系统，用来降低来自中央反应区的载热气体的温度，使得沉积区的温度低于薄膜材料的熔点。本发明还公开了使用该化学气相沉积装置制备复合靶材的方法，利用水冷组件直接降低来自中央反应区的热辐射，和外置水循环系统通过热交换降低反应气流的温度，成功制备出碳纳米管泡沫与超薄金属膜或高分子膜的复合靶材。
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公开(公告)号：CN114624959A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202011453395.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种高效率极紫外辐射产生方法，通过激光打固体靶产生极紫外辐射，对激光进行聚焦，聚焦后的激光作用在靶材上，聚焦前的激光源为飞秒激光源；靶材为满足平均密度介于常规固体和常规气体之间、微米尺寸下分布均匀、边界陡峭特点的材质，本发明还公开了一种高效率极紫外辐射产生系统，包括激光源(1)和靶(2)，在激光源(1)与靶(2)之间还设置有离轴抛物面镜聚焦装置(4)，在激光源(1)与离轴抛物面镜聚焦装置(4)之间设置有等离子体镜装置(5)。根据本发明所述的高效率极紫外辐射产生方法及装置，具有产生极紫外辐射效率高、谱带宽、光谱可调等诸多优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114057184A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202010763009.3
申请日：2020-07-31
Applicant: 北京大学
IPC: C01B32/162 , C01B32/168 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种自支撑碳纳米管薄膜和自支撑碳纳米管薄膜靶，其制备方法和密度调控方法，以及所相应采用的制备装置。本发明提供的装置和/或方法通过浮动催化化学气相沉积法制得微观均匀的低密度碳管薄膜，之后用高精度压膜机对其进行压缩、转移得到自支撑的指定密度的薄膜靶，实现了靶孔处的自支撑和大范围的指定密度调控，可用于激光打靶实验或应用。
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公开(公告)号：CN115302113B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202210987946.6
申请日：2022-08-17
Applicant: 北京大学 , 广东省新兴激光等离子体技术研究院
IPC: B23K26/70
Abstract: 本发明公开了一种激光打靶防溅射装置及方法，该装置设置在聚焦镜与靶之间，包括可旋转的转轮，在转轮非中心位置设置有打靶孔，激光打靶时，打靶孔位于激光光路上，使得激光穿过转轮，轰击靶；激光打靶后，转轮旋转使得打靶孔转离激光光路，打靶产生的飞溅物被转轮阻挡。本发明公开的激光打靶防溅射装置及方法，能够有效的阻挡激光打靶产生的飞溅物，避免飞溅物对聚焦镜、反射镜等光学元件造成损坏。
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公开(公告)号：CN117177429A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202210587428.5
申请日：2022-05-26
Applicant: 北京大学 , 广东省新兴激光等离子体技术研究院
Abstract: 本发明公开了一种用于激光加速器的真空光学平台隔振装置，包括光学平台(1)、真空腔(2)和平台支撑腿(3)，在真空腔(2)底部具有支撑孔(21)；所述光学平台(1)为平板状，置于真空腔(2)中；所述平台支撑腿(3)穿过支撑孔(21)，平台支撑腿(3)的上端与光学平台(1)接触，下端与地面连接，所述支撑孔(21)与平台支撑腿(3)之间设置有波纹管(22)。本发明提供的用于激光加速器的真空光学平台隔振装置，可有效衰减激励源振动，提高光学平台抗外界振动干扰能力。
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公开(公告)号：CN115220083A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210685004.2
申请日：2022-06-15
Applicant: 北京大学
Abstract: 本申请实施例提供一种探测谱仪，探测谱仪包括基座、反应组件和采集组件，基座具有入射窗口和沿第一方向贯穿的通道；反应组件包括装配壳体和若干堆栈单元，装配壳体至少部分收容于通道内，若干堆栈单元呈阵列排布在装配壳体上，堆栈单元收容于通道内露出并暴露于入射窗口，堆栈单元用于接收从入射窗口入射的质子束并激发产生光子，质子束的入射方向为堆栈单元的厚度方向，第一方向与质子束的入射方向相交；采集组件设置在通道远离反应组件的一端，采集组件用于采集光子。本申请提供的探测谱仪，能够实现在线检测质子束，并提高检测得到的质子束信息的完整性。
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公开(公告)号：CN114908338A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202110171463.4
申请日：2021-02-07
Applicant: 北京大学
IPC: C23C16/54 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/52 , C23C16/26 , C23C14/26 , C23C14/16 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种用于在超薄自支撑薄膜上沉积碳纳米管的化学气相沉积装置，主要包括前级加热区、中央反应区和沉积区，在中央反应区和沉积区之间设置冷却系统，用来降低来自中央反应区的载热气体的温度，使得沉积区的温度低于薄膜材料的熔点。本发明还公开了使用该化学气相沉积装置制备复合靶材的方法，利用水冷组件直接降低来自中央反应区的热辐射，和外置水循环系统通过热交换降低反应气流的温度，成功制备出碳纳米管泡沫与超薄金属膜或高分子膜的复合靶材。
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