公开(公告)号：CN114485279B

公开(公告)日：2023-03-07

申请号：CN202011157685.2

申请日：2020-10-26

Applicant: 北京大学

Inventor： 马文君 ,  赵家瑞 ,  彭梓洋 ,  颜学庆

IPC: F41J5/02

Abstract: 本发明公开了一种用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，该系统包括物理屏蔽层(1)和气体屏蔽层(2)，还具有偏转磁场组件(3)、高反光率污染物收集镜(4)和高透光率防护膜(5)，通过物理屏蔽、气体屏蔽、磁场屏蔽步骤对重频激光打靶系统进行防护。本发明公开的用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，通过多种方式组合屏蔽实现了对重频激光打靶系统的保护，极大提高了重频激光打靶系统中光学元件的使用寿命。

公开(公告)号：CN114485279A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202011157685.2

申请日：2020-10-26

Applicant: 北京大学

Inventor： 马文君 ,  赵家瑞 ,  彭梓洋 ,  颜学庆

IPC: F41J5/02

Abstract: 本发明公开了一种用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，该系统包括物理屏蔽层(1)和气体屏蔽层(2)，还具有偏转磁场组件(3)、高反光率污染物收集镜(4)和高透光率防护膜(5)，通过物理屏蔽、气体屏蔽、磁场屏蔽步骤对重频激光打靶系统进行防护。本发明公开的用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，通过多种方式组合屏蔽实现了对重频激光打靶系统的保护，极大提高了重频激光打靶系统中光学元件的使用寿命。

公开(公告)号：CN118268150A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202211737599.8

申请日：2022-12-31

Applicant: 北京大学 ,  广东省新兴激光等离子体技术研究院

Inventor： 曹正轩 ,  彭梓洋 ,  赵家瑞 ,  马文君

IPC: B05B9/04 ,  B05B12/00 ,  B05B15/40 ,  B05B14/00 ,  B05B15/60 ,  B05B15/68

Abstract: 本发明公开了一种稳定超薄液体薄膜生成装置，包括主泵(1)、调节阀(2)、喷嘴(3)和储液池(4)，主泵(1)将储液池(4)中的液体抽出，通过供液管将液体输送至喷嘴(3)，由喷嘴(3)将液体喷出；喷嘴(3)具有两个，两个喷嘴(3)喷出的液体相互对撞，形成流动的液体薄膜，调节阀(2)具有两个，对应设置在不同喷嘴(3)的液路前端，用于调节喷嘴(3)的喷液流量。本发明公开的稳定超薄液体薄膜生成装置，形成液体薄膜的抖振幅度小、稳定度高。

公开(公告)号：CN118274724A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202211734269.3

申请日：2022-12-31

Applicant: 北京大学 ,  广东省新兴激光等离子体技术研究院

Inventor： 彭梓洋 ,  曹正轩 ,  马文君

IPC: G01B11/06

Abstract: 本发明公开了一种微纳膜厚测量方法及装置，通过以下步骤对薄膜进行测量：对于厚度150nm以下的薄膜，通过入射光对薄膜进行照射获得膜后透射光，根据反射率、入射光性质、薄膜厚度之间的关系确定薄膜厚度及其二维厚度分布；对于厚度150nm以上的薄膜，通过薄膜对宽谱光的反射光谱确定薄膜厚度。本发明公开的微纳膜厚测量方法及装置，具有检测速度快、检测准确度高、检测成本低、结构紧凑易调节等诸多优点。