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公开(公告)号：CN115258619A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202211006209.X
申请日：2022-08-22
Applicant: 兰州交通大学
IPC: B65G47/248 , B65G47/92
Abstract: 本发明属于金属工件加工领域，涉及一种铁磁性工件的自动翻面装置及方法。技术方案如下：一种铁磁性工件的自动翻面装置，包括翻面室、工件盘、高位电磁吸盘、电磁铁供电器一、驱动机构一、中位电磁吸盘、电磁铁供电器二和驱动机构二，所述工件盘设置在所述翻面室的底部，驱动机构一设置在所述翻面室的顶部，高位电磁吸盘与驱动机构一相连，高位电磁吸盘与所述工件盘相对设置，电磁铁供电器一与高位电磁吸盘相连；驱动机构二设置在高位电磁吸盘及所述工件盘的侧部，中位电磁吸盘与驱动机构二相连，电磁铁供电器二与中位电磁吸盘相连。本发明的铁磁性工件的自动翻面装置及方法，能够连续、高效、平稳地将铁磁性工件进行翻面，并传送至下一工位。
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公开(公告)号：CN106152576A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201610824620.6
申请日：2016-09-14
Applicant: 兰州交通大学
CPC classification number: F24S70/20 , Y02E10/40 , C23C14/067 , C23C14/081 , C23C14/10 , C23C14/352 , F24S70/12
Abstract: 本发明涉及功能薄膜技术领域，具体是指一种可实现太阳能光热能量转换的高温光谱选择性吸收涂层。一种基于难熔金属硼化物的高温光谱选择性吸收涂层，其主要特点在于：在基板上设有红外反射层，在红外反射层上顺序设有光谱主吸收层、光谱辅吸收层和减反射层，其中光谱主吸收层和光谱辅吸收层中均包含难熔金属硼化物作为吸收光谱能量的主要成分。本发明涂层可采用磁控溅射等真空镀膜技术沉积在不锈钢等基体上，能够稳定工作在500～620℃真空或大气环境中，可应用于太阳能聚光集热高温发电等领域。本发明的涂层具有吸收率高、热发射比低、高温稳定性和耐久性优越等特性，适合于工业化生产与应用。
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公开(公告)号：CN107338432A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710564245.0
申请日：2017-07-12
Applicant: 兰州交通大学
IPC: C23C24/04
Abstract: 本发明涉及一种制备Fe-Si合金薄板的方法，更特别地说，是指一种采用气体动力喷涂(冷喷涂)技术制备具有优异软磁性能的Fe-5.5～6.5wt.％Si高硅钢薄板的方法。一种采用气体动力喷涂制备高硅钢薄板的方法，是采用气体动力喷涂将微米级Fe-23～40wt.％Si合金微粉喷涂在低硅钢薄板的单面或双面，然后在氢气还原气氛中进行高温扩散处理，使高Si涂层中的Si原子向内扩散渗入低硅钢基体，直到基体中的含Si量达到5.5～6.5wt.％，获得具有优异软磁性能的高硅钢薄板，满足高性能铁芯材料使用需求。本发明的方法涂层制备速率快、工作效率高，制备过程质量可控，因此极其适合工业化应用。
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公开(公告)号：CN111020515A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN202010029774.2
申请日：2020-01-13
Applicant: 兰州广合新材料科技有限公司 , 兰州交通大学
Abstract: 本发明涉及一种镀膜装置及方法，具体涉及一种非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置及方法。本发明的技术方案如下：非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置，在离子镀膜的镀膜腔室中，镀膜靶源对向基片台，镀膜腔室中设有辅助靶源和遮挡板，所述遮挡板设置在镀膜靶源与辅助靶源之间，所述遮挡板将辅助靶源的工作区域与镀膜靶源及基片台的工作区域予以隔离。本发明能够实现在非超高真空环境条件下低氧含量易氧化薄膜的制备，一方面镀膜工艺中的本底真空度条件较为宽松，另一方面制成薄膜含氧量显著降低，特别适合在大型工业化镀膜生产线上应用。
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公开(公告)号：CN106152576B
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201610824620.6
申请日：2016-09-14
Applicant: 兰州交通大学
Abstract: 本发明涉及功能薄膜技术领域，具体是指一种可实现太阳能光热能量转换的高温光谱选择性吸收涂层。一种基于难熔金属硼化物的高温光谱选择性吸收涂层，其主要特点在于：在基板上设有红外反射层，在红外反射层上顺序设有光谱主吸收层、光谱辅吸收层和减反射层，其中光谱主吸收层和光谱辅吸收层中均包含难熔金属硼化物作为吸收光谱能量的主要成分。本发明涂层可采用磁控溅射等真空镀膜技术沉积在不锈钢等基体上，能够稳定工作在500～620℃真空或大气环境中，可应用于太阳能聚光集热高温发电等领域。本发明的涂层具有吸收率高、热发射比低、高温稳定性和耐久性优越等特性，适合于工业化生产与应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102357772B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201110291229.1
申请日：2011-09-30
Applicant: 兰州交通大学
IPC: B23P11/02
Abstract: 本发明为铁道车辆轴箱弹簧定位座摩擦套推卸压装装置及使用方法，属于载运工具技术领域。其装置包括机座、U型臂、加热装置、冲头、导向杆、定位座装夹装置，定位座装夹装置由基座和上盖组成，基座一端与上盖铰接，另一端与上盖通过夹紧螺栓连接；定位座装夹装置基座贯穿于导向杆；定位座装夹装置基座与冲头所在的一侧臂之间通过液压推杆连接，并在液压推杆作用下自由地沿导向杆滑动。液压推杆可以通过液压系统实现速度控制和行程方向调整。本发明专利的有益效果：①利用热胀冷缩原理退卸过盈配合材料；②减少气割切割时的电焊人员；③提高定位座摩擦套检修效率；④利用机械设备降低工作者劳动强度。
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公开(公告)号：CN115404453A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202210954223.6
申请日：2022-08-10
Applicant: 兰州交通大学
Abstract: 本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种提高磁控溅射镀膜机溅射粒子收得率的磁约束系统及方法。本发明的技术方案如下：一种提高磁控溅射镀膜机溅射粒子收得率的磁约束系统，包括空心电磁线圈、可变电流直流电源和线圈位置调节机构，线圈位置调节机构设置在磁控溅射镀膜机的基片台上，所述基片台上设有工件盘，空心电磁线圈安装在线圈位置调节机构上，空心电磁线圈放置在磁控溅射镀膜机的磁控靶与所述工件盘之间，空心电磁线圈与所述磁控靶同轴设置，可变电流直流电源与空心电磁线圈相连。本发明提供的提高磁控溅射镀膜机溅射粒子收得率的磁约束系统及方法，能够实现对等离子体束流的汇聚调控作用，提高溅射粒子收得率和靶材利用率。
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公开(公告)号：CN119560293A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411758776.X
申请日：2024-12-03
Applicant: 兰州交通大学
Abstract: 本发明公开了一种高矫顽力钕铁硼磁体制备系统及方法，涉及材料制备技术领域，系统包括依次连接的过渡仓、第一真空镀膜仓、磁体翻面仓、第二真空镀膜仓、真空扩散仓和快速冷却仓；所有仓体中设置有自动传送辊，相邻两仓体之间通过真空管道连通，且在过渡仓和第一真空镀膜仓、第二真空镀膜仓和真空扩散仓、真空扩散仓和快速冷却仓相连通的真空管道上设置有闸板阀；所有仓体均设置有抽真空机组和掺气阀；过渡仓和快速冷却仓还设置有放气阀。本发明将真空镀膜与真空晶界扩散两个工艺模块一体化集成，实现高效的、规模化制备高矫顽力、高性能钕铁硼磁材。
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公开(公告)号：CN111020515B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202010029774.2
申请日：2020-01-13
Applicant: 兰州广合新材料科技有限公司 , 兰州交通大学
Abstract: 本发明涉及一种镀膜装置及方法，具体涉及一种非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置及方法。本发明的技术方案如下：非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置，在离子镀膜的镀膜腔室中，镀膜靶源对向基片台，镀膜腔室中设有辅助靶源和遮挡板，所述遮挡板设置在镀膜靶源与辅助靶源之间，所述遮挡板将辅助靶源的工作区域与镀膜靶源及基片台的工作区域予以隔离。本发明能够实现在非超高真空环境条件下低氧含量易氧化薄膜的制备，一方面镀膜工艺中的本底真空度条件较为宽松，另一方面制成薄膜含氧量显著降低，特别适合在大型工业化镀膜生产线上应用。
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公开(公告)号：CN107338432B
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201710564245.0
申请日：2017-07-12
Applicant: 兰州交通大学
IPC: C23C24/04
Abstract: 本发明涉及一种制备Fe‑Si合金薄板的方法，更特别地说，是指一种采用气体动力喷涂(冷喷涂)技术制备具有优异软磁性能的Fe‑5.5～6.5wt.％Si高硅钢薄板的方法。一种采用气体动力喷涂制备高硅钢薄板的方法，是采用气体动力喷涂将微米级Fe‑23～40wt.％Si合金微粉喷涂在低硅钢薄板的单面或双面，然后在氢气还原气氛中进行高温扩散处理，使高Si涂层中的Si原子向内扩散渗入低硅钢基体，直到基体中的含Si量达到5.5～6.5wt.％，获得具有优异软磁性能的高硅钢薄板，满足高性能铁芯材料使用需求。本发明的方法涂层制备速率快、工作效率高，制备过程质量可控，因此极其适合工业化应用。
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